日本NGK瓦状加热器H7G-22300-P
日本NGK瓦状加热器H7G-22300-P核心用途是中小功率精密工业加热,核心应用场景为半导体制造领域,也可适配通用工业需求。作为半导体制造设备的关键加热部件,用于晶圆处理工序。300W的功率适配对应尺寸晶圆的加热需求,依托氮化铝陶瓷高导热、均匀加热、抗等离子腐蚀的特性,保障晶圆在化学气相沉积、原子层沉积等工艺中,表面化学反应温度稳定均匀,提升芯片加工良率。凭借高效远红外加热、高精度控温的特性,也适用于对温度稳定性、洁净度要求较高的中小功率工业加热、干燥工程项目。


H7G-21100-G 小型 125×65 100 100
H7G-21200-G 小型 125×65 100 200
H7G-22100-G 小型 125×65 200 100
H7G-22200-G 小型 125×65 200 200
H7G-22200-P 小型 125×65 200 200
H7G-22300-P 小型 125×65 200 300
H7G-22400-P 小型 125×65 200 400
H7G-22500-P 小型 125×65 200 500
H7G-32400-P 大型 250×65 200 400
H7G-32600-P 大型 250×65 200 600

























