日本NGK陶瓷加热器H7GM-22000N-2C
日本NGK陶瓷加热器H7GM-22000N核心用途是为半导体晶圆加工提供精密均匀加热，是半导体制造设备的核心加热部件。凭借耐卤素腐蚀、抗氧化、耐高温的特性，也可应用在其他对加热均匀性、洁净度要求高的精密工业加热、干燥工序中。内置共烧RF电极，可同时作为静电卡盘吸附固定晶圆，无需额外配置卡盘部件，精简设备结构。它是CVD（化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）这类薄膜沉积设备的关键加热组件，能对晶圆实现均匀控温加热，保障晶圆表面化学反应精度，满足半导体芯片制造的严苛工艺要求。
H7G-21100-G 小型 125×65 100 100
H7G-21200-G 小型 125×65 100 200
H7G-22100-G 小型 125×65 200 100
H7G-22200-G 小型 125×65 200 200
H7G-22200-P 小型 125×65 200 200
H7G-22300-P 小型 125×65 200 300
H7G-22400-P 小型 125×65 200 400
H7G-22500-P 小型 125×65 200 500
H7G-32400-P 大型 250×65 200 400
H7G-32600-P 大型 250×65 200 600
