英国Raptor Photonics公司的Eagle XO法兰安装型高速X射线相机采用CF152(6”)法兰设计，可以与真空室直接连接。相机采用Teledyne e2v公司的背照式CCD芯片，可实现对真空紫外VUV、软X射线的直接探测，探测能量范围覆盖12eV到20keV。提供不同分辨率相机可选，方便用户选择在特殊环境下进行科研和系统的集成
主要特性
CF152(6”)法兰设计，可直接与真空室连接
来自Teledyne e2v的背照式CCD芯片
可直接探测能量范围12eV-20keV
制冷温度-80℃，暗电流<0.0005e - /p/s
读出噪声<2.3e -
Camera Link接口，易于系统集成和开发
典型应用
•x射线成像 •x射线显微镜 •薄膜和纳米纤维 •x射线等离子体诊断 •全息和光刻
>>X-ray衍射（XRD）
X射线成像及荧光成像(XRF)、X射线衍射成像(XRD)、X射线显微镜、共振非弹性X射线散射(RIXS)、VUV/EUV/XUV光谱、薄膜及纳米纤维、材料组成及结构、X射线等离子体诊断、全息照相及光刻
>>EUV紫外光刻半导体工业使用波长从 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已达到光刻技术的界限。认识到这 一限制，该行业在过去几年中一直在寻找一种潜在的后继技术，以生 产小于100nm的特性。半导体工业研究的下一代光刻技术包括超视 距光刻、X-ray光刻、离子束投影光刻和电子束投影光刻。尽管EUV 光刻技术也有其挑战，但它经常被使用，因为它保留了上述光刻技术 （波长13.5nm）的外观和感觉，以及使用了相同的基本设计工具。 因此，直接探测X-ray相机为光刻系统工作中提供了好的诊断 和监控手段。
>>XUV、软X射线及EUV光谱
美国McPherson Instruments公司的251MX平场光谱仪，采用新的120g/mm光栅和EA4710XO-BN相机，可以轻松实现XUV、软X射线及EUV光谱的测量。
Eagle XO – Open Front X-Ray
Open Front High Energy CCDs with a range of custom options
Introducing a high energy direct X-Ray Open Front version one of the most sensitive CCD cameras in the World. The Eagle XO is available in a range of options including sensor resolution, sensor type, cooling and flange options. This freedom of choice offers cameras to meet your exact needs.
The EAGLE XO camera features:
· Open front end – CF152 (6”) flange for direct interfacing to vacuum chambers
· Deep cooled using Thermoelectric cooler (TEC) – Minimize dark current and enable long exposure
· Choice of resolutions and pixel sizes – Optimizes sensitivity and large field of view imaging
· Choice of sensor types – Enables ultra sharp image resolution and high dynamic range
产品参数：
型号 | EA4240XO-BN-CL |
芯片类型 | CCD |
有效像素 | 2048 x 2048 |
像素尺寸 | 13.5μm × 13.5μm |
有效面积 | 27.6mm × 27.6mm |
像元合并 | Programmable, up to 64×64 pixels |
满阱 | >80ke- (100Ke- typical) |
移位寄存器阱深 | 150ke- |
非线性 | 小于百分之一 |
读出噪声（RMS） | <3.5e- @ 75kHz (2.3e-typical) <12e- @ 2MHz (9.0e-typical) |
binned读出噪声 | 16×16 binning: < 5.0e- @75kHz pixel readout rate |
峰值量子效率 | > 90 |
光谱响应范围 | 12eV to 20keV |
制冷方式 | -80°C with 10°C coolant / -70°C air cooled with 25°C ambient |
法兰 | CF152 (6”) |
同步方式 | Trigger IN and OUT - TTL compatible |
数据输出格式 | 16 bit base Camera Link |
供电方式 | 12V DC ±0.1 |
总功耗 | <67W (TEC ON, Steady State) |
工作温度 | -20°C to +55°C |
存储温度 | -40°C to +70°C |
外形尺寸 | 155.08mm x 140.89mm x 110.00mm |
重量 | 3.5kg |
典型应用
•x射线成像 •x射线显微镜 •薄膜和纳米纤维 •x射线等离子体诊断 •全息和光刻
>>X-ray衍射（XRD）
X-ray衍射是一种研究物质特性的技术，如大分子、晶体、粉末、 聚合物和纤维。 当X-ray穿过物质时，它们与原子中的电子相互作用，并分散开 来。如果原子是在平面上组织的（即物质是结晶的），并且原子之间 的距离与X-ray的波长大小相同，则会发生构造性和破坏性的干涉， 并形成衍射图案。根据所研究物质的种类，可以使用单色X-ray、粉 红束（窄带）X-ray或白束（宽带）X-ray。
>>EUV紫外光刻
半导体工业使用波长从 365nm 到 248nm 到 193/157nm 的光 源，其特征尺寸小于100nm，但已达到光刻技术的界限。认识到这 一限制，该行业在过去几年中一直在寻找一种潜在的后继技术，以生 产小于100nm的特性。半导体工业研究的下一代光刻技术包括超视 距光刻、X-ray光刻、离子束投影光刻和电子束投影光刻。尽管EUV 光刻技术也有其挑战，但它经常被使用，因为它保留了上述光刻技术 （波长13.5nm）的外观和感觉，以及使用了相同的基本设计工具。 因此，直接探测X-ray相机为光刻系统工作中提供了好的诊断 和监控手段。
>>XUV、软X射线及EUV光谱
美国McPherson Instruments公司的251MX平场光谱仪，采用新的120g/mm光栅和EA4710XO-BN相机，可以轻松实现XUV、软X射线及EUV光谱的测量。
Typical Uses:
· X-ray imaging
· X-ray microscopy
· Thin films and nanofibers
· X-ray plasma diagnostics
· Holography and lithography
