光学透镜等离子清洗设备：诚峰智造
名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-10L-S
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 3kw
射频电源功率（RF Power）
600W/13.56MHz
容量（Volume ）
120L(Option)
层数（Electrode of plies ）
8(Option)
有效处理面积（Area）
400(L)*300(W)(Option)
气体通道（Gas）
两路工作气体可选：Ar、N2、H2、CF4、O2
外形（Appearance ）
钣金结构
产品特点
超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，精准的控制设备运行；
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求；保养维修成本低，便于客户成本控制；
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
应用范围
真空等离子清洗机适用于印制线路板行业，半导体IC领域、硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。印制线路板行业：高频板等离子表面活化，多层板表面清洁、去钻污、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污，软板补强前活化。半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；硅胶、塑胶、聚合体领域硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
多种*表面PCB线路板可用于等离子体系列产品。等离子体设备应用包括提升粘接附着力、表面活化等。在PCB板前处理，等离子体设备可以改变达因值和接触角达到想要的效果。
真空等离子体设备采用真空腔，使胶带与PCB线路板骨架区域无导电通道，在PCB线路板骨架区域有自由导电通道。环材由绝缘非导电材料制成，而铝等离子体与铝之间的传导路径*于PCB线路板区域。在环面胶带和框架片之间有2mm的间隙。由于不存在等离子体产生或在晶片和胶带的底部，因此底切和分层小化，并且在晶片表面不会有溅射或胶带沉积。根据我们的方法，将环形边缘与下电极之间的间隙*小化，从而得到2mm或更小的扩展面积，这样你就可以像其他系统那样得到二级等离子体，而不是初级等离子体。。
保持型涂料改善了保持型涂料的附着力，通常很难对某些符合严格环境要求的材料施加足够的保护(如TPU)。等离子体处理技术改善了表面的润湿性，并改善了保形涂层与高性能焊接掩模材料及其它不易附着的基材的粘合性能。另外，采用等离子体设备处理PCB后，提高了保形涂层材料的流动性能。保形层粘合的其它挑战包括脱模化合物和残余焊剂等污染物。等离子体处理是清洁电路板的一种有效方法，等离子体处理能在不损坏基片的情况下去除污染物。可以提供单级等离子体处理的等离子体处理系统-包括回蚀和清除-每一周期多可达30块面板(面板尺寸为500x813mm/20x32英寸)，在柔性电子PCB和衬底的制造过程中可达到200个单元/小时的速度。
等离子体设备用于PCB线路板处理，是晶圆级和3D封装的理想选择。等离子体的应用包括除尘、灰化/光敏抗蚀剂/聚合物剥离、介电腐蚀、晶片凸起、有机污染物去除和晶片脱模。
等离子体系统是典型的晶圆加工前的后端封装步骤以及晶圆扇出、晶圆级封装、3D封装、倒装片和传统封装的理想选择。空腔设计和控制结构可以实现较短的等离子体循环时间，且开销低，可以确保你的生产程序的吞吐量，并降低成本。等离子清洗机支持直径75mm至300mm圆形或方形晶片/衬底尺寸的自动处理和处理。另外，根据晶片厚度，可以有或无载体薄片处理。等离子室设计提供了优异的蚀刻均匀性和工艺重复性。主要等离子表面处理技术应用包括各种蚀刻、灰化和除尘等步骤。其它等离子体过程包括除污、表面粗糙化、润湿性提高、以及增强粘结和粘着强度、抗光蚀剂/聚合物剥离、电介质腐蚀、晶片凸起、有机污染物去除和晶片脱模。圆片清洁-在圆片碰撞之前，等离子体设备将清除污染物、有机污染物、氟化物等卤素污染物以及金属和金属氧化物。等离子也提高了薄膜的粘附力，清洗了金属接合垫。
电路板等离子体设备等离子体系统除硅片，用于重新分配，剥离/蚀刻光刻胶的图形电介质层，增强晶片应用材料的附着力，去除多余晶片所施加的模子/环氧树脂，增强金焊料凸块的附着力，使晶片减少损坏，提高旋涂膜的附着力，清洁铝键合垫。
