离子去胶机，等离子表面处理机简介
等离子去胶机的真空腔采用石英管结构，适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、*、速率快、成品率高、处 理后无酸气废水等残留等特点。等离子表面处理机采用国频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。
等离子去胶机，等离子表面处理机主要配置及技术指标：
l、电源：单相220V 50Hz，2KW
2、射频源：国产， f=13.56MHz 50～500W连续可调，全自动匹配
3、气体控制：氧气和氮气气两路，美国进口浮子流量计控制
4、真空获得方式：2L机械泵
5、真空度：优于-100KPa
6、气体流量：0～5L/min
7、真空腔：石英腔。尺寸：￠200X300mm
8、产能：每次20片（2"-4"）
9、触摸屏+PLC控制
l0、控制方式：自动/手动，自动模式下可实现一键完成整个工艺过程
l1、整机采用松下plc和触摸屏控制
12、反射自动匹配
a、负荷电流：10ARMS
b、负荷电压：200VRMS
c、传输效率：>90％
d、匹配时间：3～5s
e、可匹配阻抗实部范围：1～500Ω
f、可匹配阻抗虚部范围：－j200～＋j200
g、主电容：空气电容
上海隽思实验仪器有限公司具有自主开发、设计能力。服务于电子、电力、通讯、航空航天等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优秀的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
公司坐落于中国上海，奉贤区柘林镇工业园区。公司拥有多台*的专业生产设备，公司是一个专注多年热处理设备、仪器设备的生产厂家，拥有高的技术人才，高素质的工作团队，丰富的生产经验。主要业务项目有：半导体湿法设备， 硅片刻蚀机，清洗设备，HMDS预处理系统，HMDS烤箱，无尘烤箱，无氧烤箱，无尘无氧固化烤箱，真空烤箱，真空无氧固化烤箱，干燥烘箱，黑蒜设备，环境可靠性设备，电线电缆检测仪器等设备，同时可根据客户要求设计非标类的产品。
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