德国SUSS旋涂机LabSpin8
在半导体、MEMS、光子芯片及先进材料研发与原型制备中，光刻胶与功能薄膜的均匀涂覆、稳定显影是保障工艺效果的关键。德国SUSS MicroTec推出的LabSpin8手动旋涂/显影系统，是面向实验室高精度研发需求设计的紧凑型设备，支持最大200mm圆形基板与150×150mm方形基板，将工业级控制精度与实验室易用性相结合，满足多场景微纳加工需求。
产品定位
LabSpin8属于模块化手动工艺设备，集成旋涂与浸润式显影两大核心功能，主要服务于研发实验室、高校科研机构及小批量试产线。设备采用桌面式或机架式设计，占地面积小，可适配湿法工作台安装，能够对光刻胶、电子功能材料等多种化学品进行稳定涂覆与显影处理，保证薄膜制备的均匀性与重复性。
特点与优势
设备采用无刷EC电机直连空心轴结构，最高转速8000rpm，加速度可达4000rpm/s，配合优化工艺腔室，薄膜均匀性可控制在±1-2%。基板适配范围广泛，支持圆形晶圆、方形衬底、碎片及特殊形状工件，可满足异质集成与特殊材料研究需求。
系统具备高度模块化可配置性，支持注射器点胶、全自动点胶、去边胶、显影液喷涂、DI水冲洗、氮气干燥等功能选配，还可加装振荡显影模块提升工艺效率。彩色触摸屏控制系统可存储200个工艺配方，单配方支持40步工艺程序，满足复杂工艺自动化执行要求。设备配备真空控制、封闭防护等安全结构，匀胶杯可拆卸清洗，有效避免交叉污染，维护流程简便。
技术规格
| 参数项目 | 技术指标 |
| 适用基板 | 200mm圆形/150×150mm方形 |
| 驱动电机 | 无刷EC电机 |
| 转速/加速度 | 最高8000rpm/4000rpm/s |
| 控制系统 | 触摸屏，200组配方存储 |
| 核心功能 | 旋涂、浸润式显影、EBR去边胶 |
应用领域
LabSpin8广泛应用于半导体新工艺与光刻胶研发、MEMS/NEMS微结构厚胶制备、硅光芯片波导加工、OLED/QLED功能薄膜制备等场景。同时作为高校与科研机构微纳加工平台核心设备，支持多学科交叉研究，也可为初创企业与中试线提供低成本、高效率的工艺验证与原型制备方案。
德国SUSS旋涂机LabSpin8
