WafIR™ 晶圆测定ATR
WafIR™是一种水平ATR配件，用于分析施加在双面抛光晶片一侧的单层和其他薄涂层。它具有一个45°入射角的硅晶体，可以将光线耦合到晶片内外。WafIR包含一个带有压力垫的压力施加器，设计用于以*小的接触面积实现*佳接触，接触面积在测量区域之外。压力施加器包括一个滑动离合器，以限制施加到样品上的总力，并与扭矩扳手兼容，以实现可重复性。WafIR是全封闭的，用于快速净化，与大多数FTIR光谱仪兼容。
特征
无障碍的水平取样表面可容纳直径从52 x 10 mm到203 mm（8英寸）的晶片。
非接触式采样方法；与耦合晶体的接触在测量区域之外。
由于多次反射，灵敏度很高。
对于0.770毫米厚的晶片，从涂层表面提供33次反射。
固定45°入射角。
可更换硅耦合晶体。
内置滑动离合器限制了施加在样品上的总力。
独特的压力施加器，带有垫片，可尽量减少与样品的接触。
易于对齐和使用。
PermaPurge™可在不中断清洗的情况下快速更换样品。
包括
硅耦合晶体的WafIR。
指定光谱仪的配套硬件。
