VariGATR™掠角ATR
VariGATR™掠角ATR附件是分析半导体和金属基板上单层的优化方法。VariGATR™是可变角度的，因此可以优化入射角，以获得这些类型样品的*高灵敏度。其专门设计的压力施加器经过优化，可在样品和Ge ATR晶体之间提供良好的接触。VariGATR™非常适合快速、可重复的测量，与掠射角方法相比，灵敏度至少提高了一个数量级。此外，它还提供了一个易于使用、预对准的水平采样附件的便利。
特点
方便的水平采样表面。
内置带滑动离合器的压力施加器，可重复施加压力。
从60º到65º的连续可变角度，可实现*大灵敏度的优化。
防反冲机制允许**、可重复的角度选择。
锗ATR晶体。
可容纳直径不超过8英寸的样品，中心取样的圆盘直径不超过6英寸。
PermaPurge™用于快速吹扫系统。
选项包括：
线栅偏振器，用于增强光谱对比度和方向研究。
包括滑板安装架
带有数字读数的力传感器，用于**测量施加的力，以实现ATR晶体和样品之间的接触。
提供低扭矩滑动离合器。
