KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从 nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t 等多款产品，可测量从几 mm到450mm 大小的样品，薄膜厚度测量范围 1nm到mm 级。Filmetrics F50 系列的产品能以每秒测绘两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，配备R-θ 极坐标标准和订制化样品盘，样品直径可达450毫米。
测量原理-光谱反射
光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应 （绝大多数薄膜都是旋转对称）。 因为不涉及任何移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过 10um 的，而椭偏仪侧重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之间，两种技术都可用。 而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。
主要应用
测量厚度、折射率、反射率和穿透率
- 单层膜或多层膜叠加
- 单一膜层
- 液态膜或空气层
- 膜厚2D和3D mapping绘制
技术能力
- 光谱波长范围：190-1700 nm
- 厚度测量范围：1nm-250 μm
- 测量 n&k 最小厚度：50 nm
- 准确度：取较大值，1nm 或 0.2%
- 精度：0.02nm
- 稳定性：0.05nm
- 光斑大小：1.5mm
- 标准卡盘：直径 200mm 或 300mm
- 选择显微镜模块，可升级为 F54
半导体薄膜：光刻胶、工艺薄膜、介电材料、CMP
液晶显示：OLED、玻璃厚度、ITO
光学镀膜：硬涂层厚度、减反涂层
高分子薄膜：PI、PC
