SPS(POLOS)桌面原子层沉积系统AT200 ALD
波洛斯提供各种沉积系统。桌面原子层沉积或ALD系统是解决问题和制造纳米级器件的宝贵工具。我们的系统适用于多达5条生产线。
产品说明
桌面原子层沉积系统2英寸
了解市场上最小尺寸的ALD工具。AT200M专为简单的操作和安装而设计，主要面向教育和计量市场，在这些市场中，小尺寸和成本效益是最大的关注点。
AT200M采用半导体级元件、金属密封线和强大的PLC驱动用户界面，可产生快速循环和高质量的单组分薄膜，同时还实现了易于维护和安全、可重复的操作。
特征
小尺寸台式热ALD系统
库存可立即运往世界各地。
容纳来自2英寸x 2英寸x 3英寸或两个2英寸圆形晶片的样品(可定制的卡盘)
2个带有伴热管线的前体端口
通风前体外壳
高温兼容的快速脉冲ALD阀，具有用于集成惰性气体吹扫的超快速MFC标准
最多2个加热前体
全不锈钢容器，温度范围为250℃
静态处理模式下可获得高曝光
集成PLC控制的5英寸显示屏
包括终身软件升级
1年保修(包括零件和人工)
特点：
市场上最小的ALD工具
快速循环和高质量单组分薄膜
易于维护和安全，可重复的操作
静态处理模式下可获得高曝光
SPS(POLOS)桌面原子层沉积系统AT200 ALD
