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GVC-2000离子溅射仪

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更新时间:2022-10-31 16:38:08浏览次数:220次

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产品简介

GVC-2000离子溅射仪 溅射电流与压力无关、基本没有热损伤;在较好的真空、较低的电压下即可获得较大的电流;更适用场发射等高分辨观电极制备。

详细介绍


磁控溅射工作原理

低气压下气体的辉光放电现象(与直流相同),显著区别:

1. 靶材后有磁铁,直流没有;

2. 靶材电压为-600V左右,显著低于直流;

3. 绝大部分电子和负离子在电场和磁场的共同作用下,做螺旋线运动,单个电子电离的气体分子大大多于直流,因此,在较好的真空、较低的电压下即可获得较大的电流;

4. 在磁场在作用下,绝大部分电子和部分负离子落在靶材附近,无法到达样品台,对样品基本没有热损伤

 

工作特点:溅射电流与压力无关、基本没有热损伤。

 

应用领域:适用于所有样品,尤其是温度敏感性样品、如生物、聚合物等样品

                    工作时真空度好,镀膜的颗粒度更小,更适用场发射等高分辨观测

                    电极制备。


GVC-2000镀膜后电镜效果图,高分辨图片中,无明显颗粒感,适配高分辨扫描电镜,充分体现表面细节特征


 

(左)

 

(右)


上面两张图片为锂电池隔膜样品的电镜图片

左侧图片为GVC-2000喷金后的电镜观测图可以看出,样品形貌真实完整;

右侧图片为其他设备喷金后的电镜观测图片,可以看出,热损伤严重,几乎无法识别为同种样品。

镀膜颗粒度:


GVC-2000离子溅射仪

金靶

颗粒尺寸6~10nm





品特点:

一、安全

1.高压线多重防护,外加8×5透明真空管,安全;

2.外壳良好接地;

3.真空互锁;

4.电流>50mA,真空度超过100Pa,系统自动切断溅射;

5.实体按键,安全;

6.溅射头采用阻尼设计,任意位置悬停

二、注重用户体验

1.5英寸液晶屏,简洁明了;

2.最多设置两个参数,即可开始工作

3.参数设定后,系统自动调整真空度,无需人工调节针阀,简单方便;

4.自动放气

5.样品台高度1秒调节。

三、信息量大

1.溅射过程中真空度和溅射电流以曲线方式实时显示,简单直观;

2.靶材使用时间,仪器使用时间系统自动记录,直观了解设备的运行状态。

四、快速上手

设备内置操作向导,在操作人员更换时,无需培训,即可快速熟练操作设备。


  • 更多详细参数请致电咨询!




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