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上海续波光电技术有限公司
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关键词：RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT型号：MU700S;产地：欧洲
关键词：RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、
过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT
型号：MU700S; 产地：欧洲；
应用：过渡金属, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等;
代表性用户：法国科学研究中心（CNRS）、意法半导体（ST）
RFICP源：束径可达 220 mm
采用分子泵或低温泵+干泵组合真空系统
均匀性：+/- 5% on 290 mm衬底
水冷样品台，衬底尺寸可达直径300mm
样品台可以倾斜和旋转
配套SIMS用于刻蚀监控
配置Load Lock
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