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苏州中科科美科技有限公司
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磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
应用领域
磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。
可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。
主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
技术参数
1．极限真空压力：9×10-5Pa
2．靶直径(mm)：50
3．靶单位面积功率（W/cm2）：20
4．靶电源功率（W）：DC1000；RF500
5．基片加热温度：室温-500℃ 可控
6．恢复真空抽气时间（min）：<30
7．基片沉积速率（nm/s）：3
8．气体流量：0-200slm
9．电压（KV）：0-35可调
10．束流（NA）：≤100
11．扫描面积（mm2）：120×120
12．束斑尺寸（mm）：2-10
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