详细摘要： 匀胶机，可程式匀胶机概述：可程式匀胶机适用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆
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上海隽思实验仪器有限公司
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详细摘要： 匀胶机，可程式匀胶机概述：可程式匀胶机适用于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆
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详细摘要： 500度高温洁净烘箱，百级高温烤箱用途:洁净烘箱，百级洁净烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘...
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详细摘要： 真空存储柜，真空干燥柜用途:真空存储柜适用于各类化工原料、贵重金属、金属粉末等各种固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池...
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详细摘要： HMDS增粘装置，涂敷HMDS增粘剂的装置用途：HMDS增粘装置通过对箱体内预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂...
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详细摘要： 产品名称及型号1.1产品名称高低温交变湿热试验箱1.2产品型号JS-GD/JS60401.3数量1台线性温湿度试验机，高低温交变湿热箱定制概述2.1概述本产品是...
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详细摘要： 精密烤胶台，高精度烘胶机概述：用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（softbake），底胶涂覆（PrimerVapor）和后烘烤(har...
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详细摘要： HMDS预处理系统(JS-HMDS90)用途：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要
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详细摘要： 智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）用途：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显...
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