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上海隽思实验仪器有限公司
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无氧烘箱，光刻胶固化烘箱应用工艺无氧烤箱应用于精密电子元件、PI胶固化烘烤、BCB固化，光刻胶固化、LCP液晶聚合物热处理、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合集成电路/半导体制造、COB封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求，广泛应用于生产企业、高等院校、科研等场所
无氧烘箱，光刻胶固化烘箱应用工艺
无氧烤箱应用于精密电子元件、PI胶固化烘烤、BCB固化，光刻胶固化、LCP液晶聚合物热处理、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合集成电路/半导体制造、COB封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求，广泛应用于生产企业、高等院校、科研等场所。
无氧烘箱，光刻胶固化烘箱特点
精度高，可调整；
温度稳定性强，可重复性高；
大容量，可批量生产；
兼容性好，适用于2--12寸晶圆；
智能化，操作方便，一键运行，无需人工值守；
快速降温，具有辅助降温装置，提高生产效率；
无氧烘箱性能：
温度范围：RT+50～450℃；
内箱尺寸：多尺寸定制；
材质：SUS304/316不锈钢；
氧含量：≤ 20ppm;
数据输出：温度记录/氧浓度记录
保护功能：短路保护、漏电保护、超温保护、电机过电流保护、电磁门禁保护
可选功能：
洁净度：class100
真空度：10pa
自动上下料：机械手
工业自动化：MES/GEM
无氧烘箱使用环境
环境温、湿度5℃～＋35℃，相对湿度：≤85%；
周围无强烈震动；
无阳光直接照射或其它热源直接辐射，
周围无强烈电磁场影响；
周围无高浓度粉尘及腐蚀性物质；
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