测定球量规真空计MG-2/MG-2M/MG-2F日本佳能CANON ANELVA
精准测压：采用高精度的传感器技术，可在10⁻⁷Pa至10⁵Pa的宽压力范围内实现精准测量，能实时监测真空环境的压力变化，测量精度可达±1%FS（满量程），满足半导体、真空镀膜等高精度工艺对压力监测的严苛要求。
多模式适配：支持多种测量模式，可切换不同的压力量程，适配不同真空度的工艺场景；部分型号配备数字显示屏，能直观显示当前压力值、测量模式等参数，还支持与外部设备的数据交互，可将压力数据传输至生产管理系统，实现远程监控与集中管理。
稳定可靠：具备出色的抗干扰能力，能在工业环境中的电磁干扰、温度波动等复杂条件下稳定工作，长期使用仍能保持测量精度。
半导体制造行业：用于半导体芯片的制造、封装等工序，实时监测真空腔室内的压力，保障芯片制造过程中的工艺稳定性，提升芯片的良率与性能。
真空镀膜行业：在真空镀膜设备中监测腔室压力，确保镀膜过程中压力的稳定性，提升镀膜层的均匀性与附着力，保障镀膜产品的质量。
科研实验领域：用于高校、科研院所的真空实验，为真空环境下的物理、化学等实验提供精准的压力数据，助力科研工作的开展。
光伏行业：在光伏电池的生产过程中，监测真空环境压力，保障光伏电池的生产质量，提升电池的光电转换效率。
MG-2
MG-2M
MG-2I
MG-2I
MG-2F
MG-2WF
