硅片缺陷观测仪：HS-WDI

                 
 
 
 
产品介绍：
     硅片缺陷观测仪(HS-WDI)，于对硅片的缺陷进行观察，效果非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等。 
     实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果。
 
 产品特点：
 ■ 适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等； 
 ■ 使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时极大程度降低此项工作强度； 
 ■ 实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果； 
 ■ 使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有体积小，技术，像素较高， 成像清晰 、线条细腻、色彩丰富； 
 ■ 传输接口为 USB2.0 高速接口， 软件模块化设计； 
 ■ 有效分辨率为 200 万像素； 
 ■ 所配软件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系统。
 
 实际观察效果：
 

 
 

 硅片放大效果100倍
 
 
 
 
 
 
 
 
硅片放大效果200倍
 
 
 

 硅片放大效果400倍
 
 
推荐工作条件：
 ■ 温度：23±2℃
 ■ 湿度：60%~70%
 ■ 无强磁场、不与高频设备邻近
 
 典型用户：
 浙江昱辉、江西塞维ＬＤＫ、常州天合等