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主要特点:本磨抛机为双盘双控制台式机,适用于对试样的粗磨、精磨和抛光操作,可同时供两人工作。本机采用微处理系统,双盘都可单独直接获得50-1000转/分钟之间的转速和150与300转/分钟的两级定速,从而使本机具有更广泛的应用性,本机具有冷却装置,可以在研磨抛光的同时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织。该机使用方便、安全可靠,是工厂、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
主要技术规格:
ABRAPOL-30 研磨机抛光机 研磨和抛光设备 Struers司特尔
徕卡多功能定点修块抛光机 EM TXP
美国MetLab双盘手动研磨抛光机METPOL 2V
美国MetLab全自动研磨抛光机METPOL–A
德国QATM振动抛光机Qpol Vibro
美国MetLab单盘手动研磨抛光机METPOL 1V
德国QATM全自动电解抛光蚀刻机 Qetch 1000
德国QATM便携式全自动电解抛光蚀刻机Qetch 100 M
PG-1A型金相试样抛光机
PG-1型金相试样抛光机
PG-2型金相试样抛光机
PG-2D型金相试样抛光机
PG-2A型金相试样抛光机
PG-2C型金相试样抛光机
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