产品简介
AluVac系列可提供200A蒸镀电流，蒸发温度可达600°C，能够满足大部分有机材料的蒸镀，可按客户需求定制更高蒸镀温度；真空腔室采用优质不锈钢材料，采用方形结构，内部空间充足；可设置16组不同的蒸发材料，可满足各种复杂的蒸镀条件；搭配分子泵可达优于5*10-4Pa的真空度，适应绝大部分蒸发材料所需真空环境。
产品特点
□ 自动切换掩膜系统；
□ 自动开关腔体，自动抽真空、退真空系统；
□ 自动镀膜工艺；
□ *的错误检测系统
□ 优异的镀膜均匀性；
□ 提供定制化服务。
产品应用
□ 有机分子薄膜制备；
□ 半导体薄膜制备；
□ 光学薄膜制备；
□ 金属电极制备；
□ 典型样品：OLED、钙钛矿、薄膜电池、薄膜晶体管等。
功能参数
□ 蒸发源数量：2~16组可选；
□ 蒸发电流：0~200A连续可调；
□ 蒸发电源模组：1~10组可选，功率600W,1200W,1500W可选；
□ 极限真空：优于4*10-5Pa；
□ 样品与蒸发源距离：固定或0~70mm可调；
□ 钨舟挡板：按蒸发源标配，2~16组；
□ 气压保护：进口压力开关，正负压可设置，有效保护真空环境；
□ 抽气速率：常压至5*10-2Pa≤10min；
□ 掩膜库：4位/6位/8位可选；
□ 真空保持：停止真空系统后12小时≤2 Pa；
□ 门板控制：手动、手动自动集成可选。
规格型号
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
镀膜方式 | 多源热蒸发镀膜 | 多源热蒸发镀膜 | 多源热蒸发镀膜 |
腔体结构 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 | 方形，前后开门，可配合手套箱安装 |
材质用料 | 优质真空不锈钢 | 优质真空不锈钢 | 优质真空不锈钢 |
真空腔室尺寸 | L260*W262*H351 | L360*W363*H486 | L460*W464*H635 |
加热温度 | 600℃ | 600℃ | 600℃ |
蒸发源数量 | 2~8可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 | 6~12可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 | 10~16可选；扇形分布，相互间挡板隔离，避免交叉污染 |
MagicVol/切换 | PC控制 | PC控制 | PC控制 |
蒸发源/加热温度 | 室温~600°C | 室温~600°C | 室温~600°C |
蒸发源参数 | 金属舟：200A | 金属舟：200A | 金属舟：200A |
基片台（样品架） | φ161mm | φ224mm | φ287mm |
样品托及掩模版 | 样品托面积：70×70mm，可放置65×65mm样品 | 样品托面积：100×100mm，可放置90×90mm样品 | 样品托面积：140×140mm，可放置134×134mm样品或放16片25×25mm样品 |
基片台挡板 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 | 程控，气缸+磁流体驱动，传动稳定，密封可靠 |
基片台升降 | 固定间距或0~30mm可调 | 固定间距或0~50mm可调 | 固定间距或0~70mm可调 |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
基片尺寸 | ≤30×30mm | ≤30×30mm | ≤30×30mm |
膜厚不均匀性 | ≤5% | ≤5% | ≤5% |
备用接口 | 4 | 6 | 6 |
门板控制 | 手动/自动/手动自动一体 | 手动/自动/手动自动一体 | 手动/自动/手动自动一体 |
系统控制 | PC软件 | PC软件 | PC软件 |
蒸镀过程控制 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 | 各操作环节，掩膜板更换、样品架旋转及定位、电源功率调节等均可在软件界面完成 |
总功率 | ≥5KW | ≥8KW | ≥10KW |
抽气速率 | 5.0×10-2Pa≤5min | 5.0×10-2Pa≤8min | 5.0×10-2Pa≤10min |
工作真空 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 | 优于5×10-4Pa，从大气到工作真空时间≤30分钟 |
极限真空 | 优于4.0×10-5Pa | 优于4.0×10-5Pa | 优于4.0×10-5Pa |
漏率 | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S | ≤6.5×10-8Pa·L/S |
分子泵类别 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 | 油/脂润滑、磁悬浮可选 |
冷却系统 | 搭配循环水冷却 | 搭配循环水冷却 | 搭配循环水冷却 |
掩膜库一 | 4位 | 4位 | 4位 |
掩膜库二 | 6位 | 6位 | 6位 |
掩膜库三 | 8位 | 8位 | 8位 |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
循环水参数 | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% | ≤4LMP，温度范围-5°C~45°C，温控精度0.1% |
真空系统 | 分子泵+机械泵PC软件控制 | 分子泵+机械泵PC软件控制 | 分子泵+机械泵PC软件控制 |
蒸发电源 | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W，1200W，1500W等可选； 精度：程控精度为量程的0.01%。 | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度为量程的0.01% | 控制方式：恒流模式； 数量：按客户要求； 功率：600W,1200W； 精度：程控精度为量程的0.01%。 |
手套箱 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 | 单/双工位可选，可按客户要求预留多个数据交互接口（USB、BNC等）使用户可无忧使用需要与外设备连接的仪器 |
真空保持 | 12小时≤2Pa | 12小时≤2Pa | 12小时≤2Pa |
参数/规格 | AluVac 260 | AluVac 360 | AluVac 460 |
手套箱参数 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 | 手套箱含水氧探头、气体循环和再生系统。水氧含量控制在小于1 ppm。 |
系统保护 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 | 气压、高压保护控制系统全程即时报警 |
气路控制 | 超高真空气动电磁阀 | 超高真空气动电磁阀 | 超高真空气动电磁阀 |
电气柜 | 与系统一体式集成化，节省空间 | 与系统一体式集成化，节省空间 | 与系统一体式集成化，节省空间 |
腔室测温 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 | 可选高精度PT100测温，软件实时显示温度值 |
膜厚仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 | 腔室内可安装1~8个探头标配优质石英晶振膜厚控制仪；可选国产或进口监测控制仪 |
真空计显示范围 | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa | 1.0×105Pa至1.0×10-5Pa |
机架 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 | 进口铝型材组装，整体简洁大方 |
显示屏 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 | 搭配工业级屏幕支架，可任意角度旋转及随意升降，满足不同用户的舒适要求 |
AluVac/SteeVac拓展介绍
1、真空镀膜仪在器件研究的应用
（1）、半导体与电子器件领域
芯片电极与互联层制备：
采用磁控溅射技术沉积 Ti、TiN、Cu、Al 等金属薄膜，作为芯片的栅电极、源漏电极及金属互联线。
半导体封装与钝化层制备：
利用电子束蒸发或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）沉积 SiO₂、Si₃N₄薄膜，作为芯片表面钝化层，防止水汽、杂质侵蚀。
MEMS 器件结构制备：
通过溅射或蒸发沉积金属、绝缘薄膜，构建 MEMS 传感器的敏感结构与电极。
（2）、光电材料与器件领域
太阳能电池薄膜制备：
钙钛矿太阳能电池：采用真空热蒸发沉积 Au、Ag 等金属电极，或溅射 ITO 透明导电薄膜，提升光电转换效率与器件稳定性。
薄膜太阳能电池：通过磁控溅射沉积 CdTe、CIGS 等吸收层薄膜，搭配 ZnO 缓冲层，实现高效光吸收与载流子分离。
发光器件（LED/OLED）制造：
LED：采用电子束蒸发沉积 GaN 基外延层或 ITO 透明电极，溅射 Au 键合层，提升光提取效率与电流分布均匀性。
OLED：通过真空热蒸发沉积有机发光层）、空穴传输层与电子传输层，精准控制薄膜厚度以优化发光性能。
光探测器与光学元件镀膜：
沉积红外吸收膜、增透膜，提升光探测器的响应率与光学元件的透光效率。
（3）、新能源材料领域
固态电池电极与电解质制备：
采用磁控溅射沉积 LiCoO₂、LiFePO₄等正极薄膜，或溅射 Li₃PO₄、LiPON 等固态电解质薄膜，解决液态电解质漏液、安全隐患问题。
超级电容器电极修饰：
溅射或蒸发沉积活性炭、石墨烯复合薄膜，或金属氧化物薄膜，提升电极比表面积与导电性，增强储能容量。
2、产品主要测试功能特点
（1）、真空环境精准控制
配备多级真空泵组，极限真空度可达 10⁻⁷Pa，满足高纯度薄膜制备需求；部分型号支持真空梯度控制，适配不同镀膜阶段的压强要求。
采用 PID 闭环反馈控制真空度与气体流量，搭配高精度真空计与 MFC，确保镀膜过程中真空环境与气体氛围的稳定性，减少薄膜缺陷。
（2）、多镀膜技术集成
兼容多种镀膜技术，如磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、等离子体增强化学气相沉积等，可根据薄膜材料灵活选择。
支持多靶材配置，可实现多层薄膜交替沉积，适配复杂器件结构制备。
（3）、高精度镀膜调控
沉积速率可精准调节，结合 QCM 实时监控与反馈调节，薄膜厚度控制精度可达 ±0.5nm，满足微纳器件对薄膜尺寸的严苛要求。
样品台支持旋转与公转，提升大面积样品的镀膜均匀性；部分型号配备偏压电源，通过施加负偏压改善薄膜致密性与附着力。
（4）、高兼容性与适配性
样品台兼容晶圆、芯片、薄膜、柔性基底、三维器件等多种形态样品，支持室温至 500℃的温度调控，适配半导体、光电、新能源等多领域需求。
可更换不同材质靶材与反应气体，实现金属膜、氧化物膜、氮化物膜、硫化物膜等多种功能薄膜的制备。
（5）、自动化与智能化操作
配备专用控制软件，支持预设镀膜工艺参数，自动完成抽真空、镀膜、泄压全流程，减少人为操作误差。
支持数据实时采集与存储，兼容 Excel、Origin 等软件导出，方便工艺优化与数据追溯。
（6）、安全稳定运行
内置多重安全保护机制，包括真空低液位报警、超温 / 超压保护、气体泄漏检测、应急泄压装置，保障设备长期稳定运行与操作人员安全。
采用模块化设计，真空泵、靶材、控制系统等部件可独立拆卸与维护，降低设备故障率与维护成本。
