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美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称杭州太昊科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号Guardian E
  • 所  在  地杭州市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2024/5/24 9:04:47
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是INFICON的代理商,同时代理经销德国Leybold(莱宝)、Atlas Copco(阿.科普柯)、Varian/Agilent(瓦里安/安捷伦)、瑞士Vogtlin(福特林)等品牌产品。我们致力于*真空技术的推广、应用,从中低真空、高真空、到超高真空,我们可以根据客户的要求推荐*合适的真空产品,提供*上等的真空解决方案,为广大用户改进生产工艺,提升竞争力提供产品服务和技术支持。同时为满足更广大的客户要求,我们拓展了工业流量控制的产品服务,根据客户的工艺要求提供*优化的流量控制解决方案。 目前,公司主要提供的业务有:一、代理品牌的产品销售,及技术支持服务。二、为客户提供上等的真空解决方案,包括:真空非标系统设计、真空检漏技术方案、真空设备维修服务;三、流量控制解决方案:气体、液体、特殊物质流量控制方案; 我们的业务覆盖光电技术、太阳能薄膜、半导体制造、空调制冷、 科研、航天、LNG、汽车制造、医疗化工等众多行业和领域。公司本着“积极进取、开拓**”的精神,不断提升专业技能、完善运营细节,兢兢业业、勤勤恳恳,旨在为广大用户提 供更好的真空技术支持和更加完善的售后服务。 我们的理念是“完善自我,携手用户,精诚合作,共同进步”。我们以我们的诚信和服务赢得用户的肯定和信任,以客户的肯定和信任作为我们孜孜以求的动力和目标,期待更多新老朋友来电来函咨询业务,洽谈合作!
美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器 可将沉积速度控制在 0.1 到 10,000 Å/s 范围内。它可以操作一个或两个传感器,*多 8 个光输入,并控制*多 8 个沉积源,因此能够同时沉积*多 8 种材料。美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器
美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器 产品信息

美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器
可同时沉积至多八种材料

CIGS 薄膜的理想之选

美国英福康美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器 可将沉积速度控制在 0.1 到 10,000 Å/s 范围内。它可以操作一个或两个传感器,*多 8 个光输入,并控制*多 8 个沉积源,因此能够同时沉积*多 8 种材料。

INFICON 美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器 是光伏模块、有机发光二极管、光伏、超导薄膜以及分子束外延制造等应用的理想之选。

Guardian Codeposition 系统基于电子碰撞发射光谱 (EIES)。通过运用 EIES,要沉积的材料在热离子发射体的作用下生热,从而产生光子。 产生的光通过滤光器,到达光电倍增管 (PMT)检测仪,光电倍增管检测仪可以测量通过的波长的发射强度。 然后 INFICON Guardian 控制器产生 信号来控制该材料源。配备了合适滤光器的其它检测仪可用于多种材料。 

一套完整的 Guardian 系统至少包括一个传感器、一个 PMT 检测仪、一个滤光器、一个 Guardian 控制器单元以及一台安装了 Guardian 软件的电脑(由用户提供)。 EIES 通常用于控制多种材料的沉积,因此,大多数 EIES 系统还包括其他传感器、检测器、光学器件(例如分裂器)以及 QCM,QCM 用于校准或控制某些材料的沉积速率。 如需关于典型系统的更多信息,请参阅下面的 Downloads(下载)选项卡中的《Guardian 配置指南》。

要配置 美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器 共沉积系统,需要考虑以下几点
沉积材料的初级和二级发射波长为多少?

如果不同材料的峰值过于 相近,您可能需要监控二级发射波长, 二级波长的信号强度较弱。

在沉积过程中,真空室中存在哪些本底气体? 这些本底气体的发射波长 是多少?

如果本底气体的发射干扰了沉积材料,则建议使用气体补偿传感器。

对于特定发射光谱的原子种类, EIES 是*为有效的。分子种类产生的发射光谱不稳定或者 过宽,无法准确测量。不建议将 EIES 用于有机材料。各个具体应用的 *佳 EIES 系统配置由以上因素及其他因素确定。

美国英福康Guardian EIES 高精度控制器,SQC310膜厚控制仪,薄膜沉积控制器功能

1) 监控和控制多达 8 种材料的同时沉积过程
2) 从 0.1 至 10,000 Å/s 的沉积速率
3) 集成式 EIES 和 QCM 薄膜过程控制
4) 12 个继电器输出和 16 个数字输入
5) 用于设置与操作的基于 Windows 的软件
6) 与 INFICON Sentinel® 传感器兼容


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