德国BUSCH废气处理系统
普旭真空为半导体、LCD及相关行业提供了应用广泛的新一代废气处理系统。高效的废气处理技术提供净化到阈限值以下的气体，同时满足现有的和发展中的要求。
产品型号
| Technology | Model | Capacity（SLM） | Applications | Gas |
| Flameless Catalytic （AFC） | AFC 0500A | 500 | PE-CVD, HDP-CVD, ALD(NF3), AMOLED 6G CVD | Flammable gases，water-soluble gases |
| AFC 2000A | 2000 | AMOLED 6G CVD | ||
| Wet-Plasma-Wet（APW） | APW 0500A | 500 | etch for PFCs | |
| Burn-Wet （ABW) | ABW 0500A | 500 | CVD,etch for PFCs | |
| Thermal-Wet （ATW) | ATW 0500A | 500 | ALD,CVD,DIEF | |
| ATW 1000A | 1000 | ALD,CVD,DIFF,LCD | ||
| ATW 3500A | 3500 | MO-CVD,EPI, LCD(7G) | ||
| ATW 4000A | 4000 | MO-CVD,EPI, LCD(>8G) | ||
| Wet(AWE) | AWE 0500A | 500 | metal etch | water-soluble gases |
| AWE 0500AE | 500 | EPI(DCS,TCS) | ||
| Semi-Dry (ASD) | ASD 0800A | 800 | etch for cost-saving |
无焰催化处理技术（AFC）
AFC是结合了无焰催化热氧化和湿法处理技术的高温催化剂系统。用于 集成到高效单一系统中，旨在减少易燃，水溶性气体并使NF3可容纳高达3000SLM的高气流。
技术特点：
››在半导体应用和AMOLED流程中（使用大量生成气体和NF3的粉末）非常适合CVD工艺（使用NF3作为吹扫气体）。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案。
››由于电加热器和废气反应热，催化剂区域始终保持高温，而没有燃烧额外的燃料（LNG）。
››减少NOx生成
››粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区中
››降低了运行成本
››易于维护和滤芯更换
››触摸屏显示
湿法-等离子-湿法处理技术（APW）
APW是一个集成于单一系统的湿法-等离子-湿法处理技术的组合，是氧化物和多晶硅蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点：
››新湿法等离子分离设计
››耐用的反应堆等离子炬和电源设计
››具有高气体DRE（％）的稳定性能
››在废气进入等离子反应器之前，先将副产物和水溶性气体进行预湿区去除
››有效减少CF4，C2F6，SF6等PFCs
››核心零件的使用寿命长和维护周期
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
燃烧-湿法处理（ABW）
ABW是集成于单一系统中燃烧和湿法处理技术的组合，旨在有效减少PFCs，是CVD和蚀刻工艺应用的理想选择。
技术特点：
››新快速燃烧湿室分离设计
››多个安全联锁
››燃烧室带有水冷壁机制的湍流火焰
››燃烧过程中可能产生的粉末和水溶性气体被捕获在多级润湿区
››有效减少CF4，C2F6，SF6等PFCs
››性能稳定
››运行成本低
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
热式-湿法处理技术（ATW）
技术特点：
ATW将电热和湿法处理技术结合在一个系统中，该系统旨在容纳高达4000 SLM的总气流，是重粉生成和腐蚀性应用的理想选择。
››新快速热湿室分离设计
››多个安全联锁
››两种减排方法的组合，即热湿法（通过易燃和发火性气体的无焰热氧化改变工艺气体的化学性质）和水溶解（对于水溶性气体）
››易于清洁和预防性维护
››触摸屏显示
湿法处理技术（AWE）
技术特点：
AWE湿式洗涤器是适应高H2和金属粉末生成应用的理想选择。
››金属蚀刻应用的上佳解决方案
››极高的安全性和正常运行时间
››四个独立的反应室，配备智能入口防止堵塞功能和强大的文丘里管装置
››内置水循环系统
››降低了运营成本
››触摸屏显示
