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上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH 400

参考价	￥ 360000
订货量	≥1 台

具体成交价以合同协议为准

公司名称伯东企业（上海）有限公司
品牌其他品牌
型号
所在地上海市
厂商性质代理商
更新时间2024/5/3 17:32:14
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产品标签:

离子枪霍尔离子源离子源 eH 400 KRI 离子源发散离子源

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公司介绍主营产品

　　伯东公司成立于1953 年，范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿人民币。伯东公司在国内主要城市：北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门设有营业据点。

　　上海伯东真空产品事业部秉承为广大中国客户提供的真空产品、推动中国真空工艺发展、承担企业社会责任为经营理念，已累计为超过10,000家企业提供真空服务，覆盖工业、半导体、镀膜、科研和分析行业。

　　上海伯东代理品牌包含：德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国Polycold 制冷机，美国HVA 真空阀门，美国 inTEST(Temptronic)高速温度循环测试机，离子蚀刻机，真空镀膜系统及配套真空零配件等。

　　上海伯东作为国际真空品牌代理商，负责在中国地区的销售和维修服务，使用原厂进口零部件以及国外受训维修工程师；拥有的拆解，维修，校正能力并提供24小时在线服务。

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德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国Polycold 制冷机，美国HVA 真空阀门

产品简介在线询价

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2

上海伯东代理美国 KRI 霍尔离子源 eH 400 产品信息

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 400 特性
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统
• 等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:

型号	eH 400 / eH 400 LEHO
供电	DC magnetic confinement
- 电压	40-300 V VDC
- 离子源直径	~ 4 cm
- 阳极结构	模块化
电源控制	eHx-3005A
配置	-
- 阴极中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 离子束发散角度	> 45° (hwhm)
- 阳极	标准或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移动或快接法兰
- 高度	3.0'
- 直径	3.7'
- 加工材料	金属电介质半导体
- 工艺气体	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安装距离	6-30”
- 自动控制	控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder

KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:
• 离子辅助镀膜 IAD
• 预清洁 Load lock preclean
• In-situ preclean
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专li. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解 KRI 霍尔离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生