石墨烯研磨分散机 原位聚合法，石墨烯高性能热界面材料研磨分散机，德国进口研磨分散机，高剪切研磨分散机，高速研磨分散机
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IKN研磨分散机采用*创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
石墨烯是什么，简单的说它就是一个目前世界上zui强、zui坚硬、zui薄的物质，它比zuan石还坚硬，强度比钢铁强，电阻率zui小、导热系数zui高、表面积*、透光性*。而在现今下，四分之一使用在复合材料，四分之一使用在储能方面，还有近四分之一在电子信息方面。
原位聚合法
原位聚合法是将石墨烯与聚合物单体混合，加入引发剂引发反应，zui后制得复合材料。Xu等首先制备了氧化石墨烯，通过对其改性、还原制得高度硫化石墨烯，然后将高度硫化石墨烯与3,4－乙撑二氧噻吩单体、硫酸铁混合引发聚合制得石墨烯/聚(3,4－乙撑二氧噻吩)新型复合材料。Lee等通过热膨胀还原GO制备了石墨烯，在石墨烯中加入二异氰酸酯、聚己内酯二醇，采用原位聚合制备了石墨烯/水性聚氨酯纳米复合材料。Xu等将氧化石墨烯与己内酰胺混合，在缩聚的过程中，利用*将氧化石墨烯还原为石墨烯，zui终制备了石墨烯/尼龙6复合材料。
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原位聚合法可以将石墨烯均匀分散在聚合物基体中，缺点是加入石墨烯(或氧化石墨烯)的聚合物的黏度增大，使得聚合反应变得复杂。
CMD2000研磨机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
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CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%
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