使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备**水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。的离子束研磨系统结合了在*个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。
各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。
高效并节约成本
TEM，SEM和LM应用功能集于*体
SEM样品制备**可达25mm样品直径
TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率
局域网功能方便远程操控
安全
离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果
保持样品原生态
LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨
操作简便
内置应用参数库
帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护
TEM或SEM样品制备 – 在于您的选择
为了支持多样化的应用需求，Leica EM RES102 可以装配各种样品台以适用于TEM，SEM及LM样品制备。预抽室系统实现样品快速交换，从而可有效提高样品交换效率 。
SEM
斜坡切割样品台适用于切割样品获得纵截面(90°)或斜截面(35°)，便于SEM观察样品内部纵向结构，可以在环境温度下或 LN2 制冷情况下使用。
该样品台适用于SEM和LM样品的离子束清洁，抛光和衬度增强，可在环境温度下或 LN2制冷情况下使用。SEM样品台可以制备**尺寸达 25mm 的样品。适配器用于夹持商品化生产的带有3.1mm直径插针的SEM样品座。
薄片样品台用于夹持**尺寸为5(H)×7(W)×2(D) mm样品。该样品台可以很方便地被直接转移进SEM中，而不需要取出样品。
TEM
TEM样品夹用于单面或双面离子束减薄，减薄角度可低至4°。
TEM冷冻样品夹具与LN2制冷装置联用，用于制备温度敏感型样品。
FIB清洁样品台用于清洁FIB样品，减少表面无定形非晶层。
