●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合，用于制备特种薄膜，薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点，是半导体制程中关键工序的核心装备，其技术长期被美国、日本等国所垄断，属于国内卡脖子装备，也是制约国内半导体领域自主可控的关键设备，该设备的技术突破和产业化对国内半导体产业发展具有积极意义。
成都汉普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升，在服务领域深耕细作，具有较深的技术沉积。
公司成立以来，在自己所擅长领域为客户提供优良的产品和技术解决方案，公司注重产品和运营模式创新，我们坚信：唯有创新方能给用户增值，公司已与多家科研院所、高等院校及企事业单位进行横向合作，形成了科研级、工业级产品体系，已为客户设计制造了多套专用设备和仪器，获得了用户广泛赞誉。
光学器件，光电设备，电子设备
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