技术性能指标
（1）高纯锗探测器
- 类型：宽能型高纯锗探测器
- 探测器尺寸：面积52cm2，探测器厚度30mm
- 能量范围：3keV-3MeV
- 垂直冷指设计
- 相对效率：≥48%
- 能量分辨率：
≤1.80keV@1332keV
≤0.45keV @ 5.9keV
≤0.70keV @ 122keV
- 探测器材料采用超低本底材料制成，其中铝：99.999%纯度，U、Th 含量低于1ppb；铜：99.99%纯度；不锈钢 Co-60含量低；复合碳纤维
- 前放与探测器分离，位于超低本底铅室外部
-
2）数字化多道分析器
- 电子学类型：一体化数字电子学
- 道数：16k 道
- TCP/IP 协议通讯；内置 WEB 服务器
- 测量模式：PHA（脉冲高度分析）
- 电子学内置高压，放大器，多道等
- 增益范围 x1.6tox360
- 数字滤波器上升时间 0.4-30μ s，平顶时间 0-2.8μ s
- 积分非线性：在选择范围顶上 99％, ≤满刻度的±0.025%；微分非线性：在包括来自积分非线性影响的顶上 99％的范围上，≤±1%
- 系统增益段可选择为：16 384, 8192 , 4096, 2048, 1024 或 512 道
- 脉冲对分辨率– 对选择的NORM探测器类型，好于500 ns
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（3）原装超低本底铅室
- 铅室类型：超低本底铅室，一体化铸造，配套环型铅塞
- 外形及开门方式：圆柱形，顶开门
- 50-2000keV 范围内的本底计数率≤1CPS
- 外层 9.5mm 厚低碳钢， 中层 15cm 厚铅（其中 12.5cm 厚低本底铅，内层2.5cm含量低于25Bq/kg 的超低本底铅）；内衬1mm厚的锡及1.6mm厚的铜
- 带有通气孔，可为测量室通入氮气，进一步降低系统本底。
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（4）谱分析及获取软件
- 采用成熟的操作分析平台
- 可进行谱获取，参数设定等功能
- 内置可编辑核素库：预制库文件包含核素大于 200 种
- 符合相加校正
- 包含能够满足软件运行要求的数据处理终端
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（5）无源效率刻度软件
- 能对三通管、螺帽、螺栓等任何可编辑其形状的不规则样品进行效率刻度
- 提供 3D 视觉高速创建几何条件和错误识别功能
- 支持真正的无源级联符合求和校正-不需要基于源的 P/T 刻度
- 采用总效率算法，包括沉积校正
- 可以创建多个体源的复合效率
- 提供自动刻度功能
- 刻度可以像用传统技术产生的刻度一样存储、重新调出和使用
- 包括通常市场可提供的容器的库，常见吸收体材料库和创立新材料类型工具
- 提供无源效率刻度对多种体源的验证及误差分析的报告
