氮化硅薄膜窗口
随着各种软X射线光源的出现，如同步辐射、激光等离子体等高亮度的X射线源的发展，软X射线显微成像技术在范围内得到迅速发展。在此领域，需要应用各种尺寸和厚度的氮化硅薄膜窗口。
1. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成；
2. RISUN提供的氮化硅窗选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，和ST氮化硅薄膜相比，低应力产品更坚固耐用，成为用户的；
3. RISUN提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。
透光度
使用透射（光学）显微镜时，*可以透过薄膜窗进行观察。但薄膜窗的厚度有一定限制，否则其透光度会明显下降。对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户。
