全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-XN
名称（Name）
全自动On-Line式AP等离子处理系统
型号（Model）
CRF-APO-500W-XN
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz
等离子功率（Plasma power）
10KW（Max）/40KHz（Option）
有效处理宽幅（Processing width）
120mm-1200mm（Option）
有效处理高度（Processing height）
3mm~8mm（Max）
处理速度（Processing speed）
0-8m/min
工作气体（Gas）
N2/N2+CDA
产品特点： 内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；
灵活On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，
材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。
应用范围：应用于FPC＆PCB表面处理，复合型材料，玻璃，ITO等行业领域的表面处理。
真空腔体里,射频电源在一定的压力情况下起辉能产生高能量
真空等离子清洗原理:
等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。
在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面．以达到清洗目的。
真空等离子清洗的优势 :
等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。
1）处理温度低，处理温度低至80℃、50℃以下，以确保对样品表面不造成热影响。
2）由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染，所以处理全程无污染，与原有生产流水线搭配，实现全自动在线生产，节约人力成本。
3）等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题。
4）使用等离子清洗，可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点。
5）等离子体清洗可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物）都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。
6）使用等离子清洗，避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施，所以生产场地很容易保持清洁卫生。
