GMD2000/4纳米研磨机分散机

GMD2000系列SGN纳米研磨机分散机是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。

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 SGN合作的伙伴中，有做纳米白炭黑、锂电池陶瓷隔膜、氧化铝陶瓷、纳米硫酸钡胶体、蒙脱石、硅藻土、凹凸棒、高粘土、珍珠粉、石墨烯、碳纳米管、碳纤维等种类众多的物料，他们均对SGN的研磨分散机做出了很高的评价。使用SGN研磨分散设备可以正常地将物料粒径控制在微纳米级，并且不会发生团聚现象。

SGN研磨分散机采用技术，*的结构设计，适合物料研磨分散一步到位的处理，此款设备转速高达14000rpm，剪切力高，分散效果好。

 

例如作为锂电池四大材料之一的隔膜，尽管并不参与电池中的电化学反应，但却是锂电池中关键的内层组件。电池的容量、循环性能和充放电电流密度等关键性能都与隔膜有着直接的关系，隔膜性能的改善对提高锂电池的综合性能起着重要作用。

在锂电池中，隔膜吸收电解液后，可隔离正、负极，以防止短路，但同时还要允许锂离子的传导。而在过度充电或者温度升高时，隔膜还要有高温自闭性能，以阻隔电流。不仅如此，锂电池隔膜还要有强度高、防火、耐化学试剂、耐酸碱腐蚀性、生物相容性好、无毒等特点。锂电池陶瓷隔膜浆料的隔膜效果，一般取决于隔膜浆料的粒径，粒径越小隔膜效果越好。锂电池陶瓷隔膜浆料一般为氧化铝或者纳米级二氧化硅，分散到水中或者溶剂当中，难以分散，容易团聚。传统高速分散机或者砂磨机很难解决这种问题，而上海思峻研磨式分散机很好的解决了这一难题。

以下氧化铝陶瓷隔膜浆料检测粒径报告（均粒径在10μm以下）：

再如纳米白炭黑

白炭黑是一种超细微具有活性的二氧化硅粒子, 化学名称为水合无定形二氧化硅或胶体二氧化 硅, 是一种重要的精细无机化工产品. 根据制备方 法的不同, 白炭黑分为气相法白炭黑和沉淀法白炭 黑. 气相法白炭黑主要采用四氯化硅在氢氧火焰中 高温水解而制备, 沉淀法白炭黑主要采用硅酸钠与 无机酸中和沉淀反应而制备。

其具有特殊的表面结构( 带有表面羟基和 吸附水) 、 特殊的颗粒形态( 粒子小, 比表面积大等) 和*的物理化学性能, 广泛应用于橡胶、 塑料、 涂 料、 医药、 日用化工诸多领域. 然而, 由于白炭黑内部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈亲水性, 在有机 相中难以湿润和分散, 而且, 由于其表面存在羟基, 表面能较大, 聚集体总倾向于凝聚。

以下纳米白炭黑检测粒径报告（均粒径在397nm以下）：

 

 

SGN研磨式分散机是由高剪切胶体磨和高剪切分散机结合而成，先研磨后分散机，很好的解决了锂电池陶瓷隔膜研磨分散的问题。

 （本公司有样机供参观实验，钱， ）

            
GMD2000系列研磨分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

   
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

以下为GMD2000系列选型表：

型号		流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
GMD2000/4		300	9000	23	4	DN25/DN15
GMD2000/5		1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
GMD2000/10		2000	4200	23	22	DN80/DN65
GMD2000/20		5000	2850	23	37	DN80/DN65
GMD2000/30		8000	1420	23	55	DN150/DN125
GMD2000/50		15000	1100	23	110	DN200/DN150
	流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

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 （本公司有样机供参观实验，钱， ）