2026年03月13日 11:06北京汉达森机械技术有限公司点击量：92
在追求高精度与稳定性能的现代科技领域，光学材料的品质直接影响设备的使用效果。德国Hellma Materials依托成熟的技术积累，将氟化钙（CaF₂）晶体打造为支撑半导体制造、空间探测及前沿科研的核心元件。其CAF₂晶体产品，特别是Lithotec®系列，凭借良好的光学均匀性、宽光谱透过能力及稳定的环境适应性，在行业内具备较高的应用价值。
Hellma CAF₂晶体的核心优势在于较宽的光谱透过范围（130nm深紫外至8-9μm红外）和高精度的折射率均匀性。在关键的193nm深紫外光刻波长下，其内透过率超过99.3%/cm，同时将应力双折射严格控制在小于5nm/cm的水平。这种特性确保在光刻机物镜等复杂光学系统中，光束波前畸变被降至较低水平，为实现纳米级图案转移精度提供了物理保障。其低折射率（nd=1.43384）与高阿贝数（vd=95.23）带来的低色散特性，也使其成为天文望远镜、显微镜头色差校正的适用选择。
除良好的光学性能外，Hellma CAF₂晶体在工程可靠性上表现突出。其对157nm、193nm、248nm等准分子激光波长具备较好的耐久性，可承受超过10^9次脉冲的高频辐照而无明显损伤，满足光刻机高产能运行的寿命需求。该材料还拥有较好的抗辐照能力和宽温域稳定性（大气下可达600°C），能够适应太空、高能物理等环境。在尺寸上，Hellma可提供直径高达440mm的多晶坯料和直径250mm的单晶材料，为大型光学系统设计提供了更多可能。
| 产品系列 | 型号示例 | 核心特性与适配场景 |
| 标准光学级 | CaF2-UV、CaF2-IR、CaF2-POL | 分别优化紫外/红外性能、超高表面精度，适配通用光谱仪器与激光光学需求 |
| 高激光损伤阈值级 | CaF2-LDT、CaF2-EXCIMER | 抗激光损伤阈值超10 J/cm² @ 193nm，适配光刻和准分子-激光系统 |
| 高纯度电子级 | CaF2-EP、CaF2-VUV | 金属杂质含量低于1ppm，适配半导体工艺设备和真空紫外光谱学领域 |
针对不同应用场景，Hellma提供了定制化程度较高的产品矩阵，可实现性能与成本的优化匹配，满足不同领域的使用需求。
半导体微光刻：作为248nm与193nm光刻技术中照明和投影光学的常用材料，可支撑7nm及以下制程。其高均匀性与激光耐久性是主流光刻机实现高分辨率成像的关键因素。
精密光谱仪器：是紫外-可见-近红外（UV-Vis-NIR）及傅里叶变换红外（FTIR）光谱仪中比色皿、光学窗口和棱镜的理想材料，尤其适用于强腐蚀性样品或全波段分析场景。
天文与空间光学：用于高分辨率空间相机、卫星载荷的光学元件，其低应力双折射特性保障了远距离信号传输的完整性。
激光系统：作为高功率激光器的输出窗口和谐振腔镜，其低非线性折射率特性有效减少了热透镜效应等不利影响。
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