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氮化硅薄膜的制备方法(Si3N4)

2021年03月24日 10:06西安齐岳生物科技有限公司点击量:1353

氮化硅薄膜的制备方法(Si3N4)

1.物相沉积(PVD)

磁控反应溅射(Magnetron Sputting〉法离子束沉积(IBED)

2.化学气相沉积(CVD)法

热化学气相沉积(HCVD)光化学气相沉积(PCVD)

除此之外,还有常压热化学气相沉积(APTCVD)法、快热化学气相沉积(RTCVD)法、电子回旋共振CVD (ECRCVD)、催化CVD(Cat-CVD)、混合激发CVD法(HECVD)等等。

3.直接氮化法

NH3高温氮化等离子体氮化离子束氮化激光辅助氮化

西安齐岳生物科技有限公司是一家从事糖产品、科研试剂、多肽、石墨烯、石墨炔(graphyne)发光材料、金属配合物发光材料、光电材料、MAX相陶瓷,碳纳米管、原料药、纳米材料、钙钛矿、脂质体、合成磷脂的、定制合成、生产和销售的生物科技有限公司。

齐岳供应产品:

氮化硅/碳纤维/环氧树脂导热复合材料(SiN/CF/EP)
多层与单层纳米管(MWCNTs、SWCNTs
BAS/Si3N4复合材料
SiAlON陶瓷
BAS/SiC复合材料
Si3N4/BAS陶瓷复合材料
SiC(w)/SiN复合材料
Si3N4-Al2O3-Y2O3-MgO复合物
碳化硅/氮化硅/聚丙烯复合材料
Si3N4/SiC/PP复合材料
碳纳米管-氮化硅改性聚丙烯复合材料
Si3N4-BN氮化硅-氮化硼系复合材料
α-Si3N4(w)/RBSN复合材料
β-SiC(w)/RBSN复合材料
β-Si3N4(w)/Si3N4复合材料
β-SiC(w)/Si3N4复合材料
金属镍-氮化硅陶瓷复合材料
硅硼氧氮纤维/氮化硅陶瓷复合材料
硅@氮化硅@碳核壳结构复合材料
Si@Si3N4@C核壳结构复合材料
碳包覆氮化碳/硅-氮化硅/二氧化硅复合材料
导电氮化钛/氮化硅纳米复合材料
氮化硅/氮化钛纳米复合材料
亚微米级硅颗粒/氮化硅/碳复合材料
氮化硅/聚对苯二甲酸酯纳米复合材料
Ni金属膜覆盖Si3N4衬底生长浓度可控石墨烯材料
CrN/Si3N4纳米多层膜
Si3N4衬底表面上的纳米级Au薄膜
硅衬底上制备了si3N4薄膜
锑化铟衬底上生长Si3N4和SiO2双层介质膜
硅衬底上直接合成了Si3N4/SiO2同轴纳米线
不同基底偏压条件下CrN/Si3N4纳米多层膜
蓝宝石和硅衬底上氮化硅(Si3N4)薄膜
蓝宝石衬底上Si3N4膜
Si3N4衬底上TST薄膜
Si的纳米颗粒在Si3N4/Si(111)和Si3N4/Si(100)表面生长薄膜
Si3N4/Si衬底上淀积55nm氧化钒薄膜
Al的Si3N4纳米线
石英玻璃衬底上沉积平凸形Si3N4球面介质膜
Si3N4衬底上制备V2O5/V/V2O5复合薄膜

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