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*电气大电流|高分子扩散焊接铜箔导电带 铜片软连接

2017年08月17日 20:35东莞市金戈电气科技有限公司点击量:572

*电气大电流|高分子扩散焊接铜箔导电带 铜片软连接【详细说明】

铜箔软连接原料选用T2紫铜带含铜量99.97%以上,单片铜箔厚度0.03-1mm左右,批量可定制生产。紫铜带按状态分可分为软态与硬态的,满足生产安装不同需求。
铜箔软连接采用高分子扩散焊工艺,将接触面的多层铜箔融解在一起,改变其分子结构,凝固成铜块后再进行后续加工。
热融焊后的铜箔软连接产品进行钝化处理,并对表面及周边区域的毛刺、污渍、腐蚀、凹凸、划痕、抗氧化、水洗、烘干、成型、包装等进行处理。产品搭接面可按客户需求钻孔。软连接部位可整体或局部包覆绝缘套管。铜箔软连接可整体或局部镀锡、镀银或镀镍,满足客户不同需求。

铜箔软连接产品实拍图:

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