石墨烯复合材料研磨设备，石墨烯纳米金属研磨设备，高剪切研磨分散机
石墨烯由于*的纳米结构和优异的性能，有望成为一类新的电子材料、薄膜材料、储能材料、液晶材料、催化材料等*的特种功能材料。石墨烯纳米复合材料是石墨烯应用的重要领域，尽管石墨烯的纳米复合材料研究进展缓慢，相信随着研究的不断深入，石墨烯的纳米复合材料会越来越多，其相应领域和应用前景将非常广阔。目前研发出来的主要有石墨烯-金属纳米复合材料、TiO2/石墨烯复合材料等。
在合成石墨烯复合材料时，使用的都是微纳米级颗粒，还需将金属颗粒和石墨烯颗粒进行研磨，且要防止这些超细微颗粒抱团，必须用到纳米级研磨分散机，上海依肯高剪切研磨分散机CMD2000系列转速高达9000rpm（也可定制转速14000rpm超高速），进口电机经久耐用，接触材质全部采用316L不锈钢，*研磨技术和流行立式结构，是石墨烯和微纳米级颗粒研磨分散的*选择；上海依肯在石墨烯研磨方面已经有上百例成功实验，是国内*厂家和研究院的*供应商。
IKN研磨分散机CMD2000系列（石墨烯复合材料研磨设备，石墨烯纳米金属研磨设备，高剪切研磨分散机）
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
IKN高剪切研磨分散机的特点（）：
IKN研磨分散机是上海机械设备公司和德国IKN工程师合作研发的一款高科技产品，由胶体磨、分散机组合而成；是国内*一款将研磨和分散两种功能结合的zui*的流体设备。
- 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力非常强烈，通常所说的超细湿磨
- 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4.在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
5.高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
6.具体设备咨询：蔡 ，公司有样机提供实验。
CMD2000系列研磨分散机的结构：
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列设备选型表：
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
| 流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1.表中上限处理量是指介质为“水"的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.
研磨分散机和均质机的作用对比：
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。
