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镀铜扁钢电镀铜原理

阅读:2059发布时间:2014-11-7

  电镀铜层呈粉红色,密度8.93g/cm3,一价铜电化当量为2.372g/A·h,二价铜电化当量为1.186g/A·h,质柔软,具有良好的延展性、导电性和导热性,易于抛光,经适当的化学处理可得古铜色、铜绿色、黑色和本色等装饰色彩。电镀铜层在空气中极易失去光泽,与潮湿空气中的二氧化碳或氯化物作用,表面生成一层碱式碳酸铜或氯化铜膜层,受到硫化物的作用会生成棕色或黑色硫化铜,因此,做为装饰性的电镀铜层需在表面涂覆有机覆盖层。

  
  铜的标准电极电位比较正,在铁基或锌基体上电镀铜层属阴极镀层,因此,只有当镀层致密无孔时才对基体有机械保护作用。
  
  实践表明,一些金属易于在铜上沉积,而且结合力好,因此铜镀层可作为预镀层或多层电镀的底层,如Cu/Ni/Cr镀层,以厚铜薄镍层做为防护性镀层,其中电镀铜层在提高基体与镀层间的结合力、改善镀层韧性以及耐蚀性等方面均有显著作用,而且可节约大量较昂贵的金属镍。锡焊件、铅锡合金、锌压铸件、铍青铜、磷铜等合金在电镀前也常用预电镀铜来改善结合力。

  
  碳和氮在铜中扩散很困难,因此对于局部需渗碳或渗氮处理的零件,常用电镀铜层做为防渗碳、防渗氮的镀层。
  
  金属铜与塑料的膨胀系数比较接近,因此,在塑料电镀中常用化学电镀铜层作为电镀的导电镀层。与其他导电金属层相比,电镀铜层具有应力小、机械强度高、塑料基体与镀层结合力好等特点。
  
  金属铜的电阻率低,所以在印制电路板中,用来制备铜箔及双面板、多层板的孔金属化方面采用电镀铜工艺。
  
  电镀铜层还用在轮转印刷的PS版上;用在金属丝的制造中,以减小拉丝时的摩擦力;用于电刷、电极上以改善导电性能。
  
  铜的电铸也有广泛的应用,如波导或其他电器电子元件的电铸,橡胶及塑料件的浇注模的电铸等。
  
  生产上常用的电镀铜工艺有氰化电镀铜、酸性电镀铜、焦磷酸盐电镀铜等还有符合清洁生产的无氰碱性电镀铜。如HEDP电镀铜、柠檬酸-酒石酸盐电镀铜及氟硼酸盐电镀铜等工艺,但用于生产的较少。

  
  镀铜,电镀面积为1SF,电镀面铜厚镀为1mil时,消耗的安培小时为多少,如何计算?
  
  嗯SF应该是平方英尺吧?mil是千分之一英寸。那么铜膜的体积就是这两个相乘。1SF=92903mm^2=25.4㎜×12×25.4㎜×121mil=0.0254mm=25.4mm÷1000V=2359.7362mm^3纯铜的密度是8.92g/cm^3所以镀膜的总质量M=21.048846904g铜的分子量63.546g/mol所以镀膜的摩尔数为0.33124mol阿伏伽德罗常数6.0221367×10^23含有铜原子的个数为1.994772560508×10^23个一个铜离子转化为铜,需要吸收2个电子。电子总数为3.989545121016×10^23个1库仑相当于6.24146×10^18个电子所带电量那么这些铜离子所带电量为6.392×10^4库仑1A·H=1A×3600s=3600C所以消耗的电量为17.75557安培小时。

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