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沈阳丰亿德科技有限公司
ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS采用 ICP激发源和半导体固态检测器的全自动发射光谱同时检测的全谱直读发射光谱仪,用于对液体样品中各种元素的定性、半定量和定量分析。可以检测72个元素,检测范围PPB-35%。
ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS
应用SPECTRO侧向等离子体接口(SPI)的侧向观测等离子体用于高浓度和主成分检测、高固含量和有机物分析,可以提高线性范围、准确度和精度。
利用优化的层流、低流速吹扫机理的SPI保证光路中无氧气、减少对紫外区波长的吸收。这个技术可保证易维护的入射光学组件不受污染,使得175-190nm光谱范围的谱线的稳定和超常的灵敏度。
用于工业分析的工厂预校准分析方法包。下面是可供选择的方法包:
工业废水(只有基本的方法)、污泥、土壤、油品中磨损金属/添加剂、矿石、金属材料
ICP等离子发射光谱仪SPECTRO GENESIS分光系统:
恒温在+30C 0.1C;中空防热彭胀双帕邢-龙格罗兰圆设计;焦距400mm;全息凹面原光栅,刻线密度2400刻线/mm;石英光学部件;全部是1级波长覆盖;波长范围:175 - 777 nm;入射狭缝:15 μm
检测器:
根据所在波长精心选择并进行优化设计的15个线性CCD连续排列在罗兰圆上;分辨率14pm;与光学系统一样恒温在;动态范围为108,全波长覆盖,ICAL自动标准化
紫外系统:
氩气吹扫系统, 佳化低流量吹扫(只在分析190nm以下元素时使用)
高频发生器:免维护型,频率为27.12MHz,发生器功率:0.7 to 1.7 kW
进样系统及炬管单元
• Lock-in-Place快速换装设计
• Gas flows under full computer control气体流量全部由计算机控制
o Plasma gas等离子气 : 0 – 20 l/min in 0.1 l/min increments
o Auxiliary gas辅助气 : 0 – 3 l/min in 0.01 l/min increments
o Nebulizer gas雾化气 : 0 – 1.5 l/min in 0.01 l/min increments
• 计算机控制4速、3通道、12滚轴进样蠕动泵
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