EDI概述： EDI超纯水设备,超纯水设备,电镀超纯水设备
EDI超纯水设备连续电除盐（EDI，Electro-deionization或CDI，Continuous Electrode ionization），是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。这一新技术可以代替传统的离子交换，生产出电阻率高达18 MΩ·cm的超纯水 。EDI超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生、出水水质稳定，模块能耗少，节约运行费用，容易实现在整体式的模块排列，重量轻，结构紧凑，和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种*技术的环保特性好，操作使用简便，愈来愈多地被人们所认可，也愈来愈多地在各大行业中得到推广。
水质：电阻率>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
根据行业的不同要求，制取纯水、超纯水工艺大致分为以下四种：
1、采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤→阴树脂过滤→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透 →PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点
3、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
4、原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
超纯水处理系统、超纯水处理设备的工艺特点： EDI超纯水设备,超纯水设备,电镀超纯水设备
在设备设计上，采用成熟、可靠、*、自动化程度高的两级反渗透＋EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流*可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
超纯水处理系统、超纯水处理设备的特点：
超纯水处理系统、超纯水处理设备应用在反渗透系统之后，取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点：
1、无需酸碱再生, 不会因再生而停机， 水质稳定，无污水排放： 在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生， 且需要安全储存酸碱的车间， 再生时有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。 而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。
2、运行费用低， 连续、简单的操作， 容易实现全自动控制：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3、厂房面积小，降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。
EDI超纯水处理设备系统原理： EDI超纯水设备,超纯水设备,电镀超纯水设备
EDI超纯水处理设备设备系统是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，被吸附的离子在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜，被浓室中的阴膜截留；水中阴离子向正极方向迁移阴膜，被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化，提纯，浓缩或精制的目的。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水 。
超纯水设备应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；
电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
高品质显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。
