上海伯东德国普发 Pfeiffer 真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了完美的解决方案. 搭配 HiPace 涡轮分子泵组和专门开发的镀膜工艺监测器离子源, 在高达 10-2 hPa 的压力下, 实现了精确到分钟的工艺气体分析. Pfeiffer 同时提供一个带有压差孔板法兰的型号供选择, 气体监测质谱 SPM 220

详细介绍

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镀膜工艺气体分析仪 SPM 220
上海伯东德国普发 Pfeiffer 真空镀膜工艺监测器 SPM 220 为镀膜工艺的定性和定量气体分析提供了完美的解决方案. 搭配 HiPace 涡轮分子泵组和专门开发的镀膜工艺监测器离子源, 在高达 10-2 hPa 的压力下, 实现了精确到分钟的工艺气体分析. Pfeiffer 同时提供一个带有压差孔板法兰的型号供选择, 可以实现在高达 10 hPa 的压力范围里进行直接的工艺气体分析.
气体监测质谱 SPM 220
气体监测质谱 SPM 220
镀膜工艺气体分析仪 SPM 220 优势
用于瞬时过程监测的镀膜工艺监测器离子源
用于 H2, O2, H2O 和 CO2 的检测限
对测量结果的小化背景影响
提供压力高达 10 hPa 的压差型号
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
灵活集成的紧凑尺寸
通过各种数字和模拟输入和输出, 使系统集成方便而灵活

镀膜工艺气体分析仪 SPM 220 应用
半导体生产,玻璃镀膜, 薄膜太阳能电池发电,研发

镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 组成：涡轮分子泵+四级杆质谱+离子源
Pfeiffer 普发镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220

镀膜工艺气体监测质谱 SPM 220 优势：
镀膜工艺监测器离子源，适用于瞬时过程监测
对气体H2、O2、H2O 和 CO2 检测极限
对测量结果的小化背景影响
压力高达 10 hPa 的压差版本
多重操作允许带单个 PC 的多个质谱仪系统进行数据评估
紧凑设计，易于系统集成
通过各种数字和模拟输入和输出
Pfeiffer监测质谱 SPM 220 技术参数：

SPM 系统控制

BRU 220

电压

115-230 V

前级泵

MVP 020-3

四极控制

QME 220

带 SPM 离子源的分析仪

QMA 220

探测器

C-SEM/Faraday