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碳纳米管抛光剂超高速研磨分散机

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具体成交价以合同协议为准

产品型号CRS2000

品       牌

厂商性质其他

所  在  地上海市

更新时间:2023-12-28 18:47:46浏览次数:98次

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产品简介

碳纳米管抛光剂超高速研磨分散机,高剪切抛光剂分散机,抛光剂分散机,抛光剂胶体磨,抛光剂研磨机,高剪切抛光剂分散机,抛光剂分散机,抛光剂胶体磨,抛光剂研磨机

详细介绍

碳纳米管抛光剂超高速研磨分散机,高剪切抛光剂分散机,抛光剂分散机,抛光剂胶体磨,抛光剂研磨机

 

碳纳米管抛光剂超高速研磨分散机的分散效果 影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s­1) = v 速率 (m/s)
g 定­转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子­定子 间距。
 shsina定­转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

 

 

碳纳米管的应用十分广泛,不仅应用于橡胶、工程塑料、合成树脂等复合材料上用于提高材料应力水平,还可用于导电材料,电磁屏蔽材料,锂电池、燃料电池、胶体铅酸电池的电极改性,以及新型高速光电传感器 

 

主要作用表现在通过活性表面除去停留在金属表面的油污、氧化及未氧化的表面杂质,保持物体外部的洁净、光泽度、色牢度。通过研磨作用影响外观的质感,提高抛光的效率。

 

 


                             

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求,新浪公司在CRS2000系列的基础上又开发出CRX2000超高剪切三级剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm,转子的速度可以达到66m/s。

 

技术参数

型号

标准流量

输出转速

标准线速度

马达功率

进出口尺寸

CRS2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CRS2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CRS2000/10

3000

4200

23

15

DN50/DN50

CRS2000/20

8000

2850

23

37

DN80/DN65

CRS2000/30

20000

1420

23

55

DN150/DN125

CRS2000/50

60000

1100

23

110

DN200/DN150

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 

 

 

 


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