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深圳市东信高科自动化设备有限公司
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产品介绍等离子清洗机原理及特性：由高能高活性粒子(电子、离子、自由基、光子、中性粒子)组成的等离子体是区别于常见的固体、液体和气态之外的第四态
等离子清洗机原理及特性：
由高能高活性粒子( 电子、离子、自由基、光子、 中性粒子) 组成的等离子体是区别于常见的固体、 液体和气态之外的第四态。等离子体中的粒子活性高，很容易和固体表面发生反应。通常等离子清洗技术对于分子级别的污染物去除效果明显，通过等离子清洗将会显著增加物体的表面能，改善浸润特性和粘合性。
等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式，原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将 氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子，通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理，实现分子水平的沾污去除（一般厚度为 3 ～ 30nm），提高表面活性。对应不同的污染物，应 采用不同的清洗工艺，达到的清洗效果。清洗原理见图 2、图 3、图 4 及反应式 ：
化学清洗 : 表面反应以化学反应为主的等离子体清洗。
例 1 ：O2+e_→ 2O※+e?–
O※+ 有机物→ CO2+H2O （1）
氧等离子体通过化学反应可使非挥发性有机物变 成易挥发的 H2O 和 CO2，见图 2。
例 2 ：H2+e_→ 2H※+e?–
H※+ 非挥发性金属氧化物→金属 +H2O （2）
氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化 层，清洁金属表面，见图 3。
物理清洗 ：表面反应以物理反应为主的等离子体清洗。
例 ：Ar+e_→ Ar ++2e?–
Ar++ 沾污→挥发性沾污 （3）
Ar+在自偏压或外加偏压作用下被加速产生动能， 轰击清洗工件表面，去除微颗粒污染物，同时进行表 面能活化，见图 4。
液体在固体材料表面上的接触角, 是衡量该液体对材料表面润湿性能的重要参数，若θ<90°，则固体表面是亲水性的，其角越小，表示润湿性越好；若θ>90°，则固体表面是疏水性的。
达因值的测量在印刷、涂层、覆膜、焊接等应用非常常见，可反映出材料表面容不容易结合，一般而言，达因值越大，表面与另一种材料的结合性能越佳。
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