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沈阳华仪时代科技有限公司
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Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下流行的触摸屏控制，简单方便。
主要技术参数
• 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）
• 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可控制碳膜厚度
• 可选石英膜厚检测器，控制镀膜厚度，精度达0.1nm
• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
• 触摸屏控制，简单方便
• 真空度≤7×10 -3 mbar
• 溅射电流：0-150mA可调
• 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）
• 工作距离调节范围：30mm-100mm
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