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北京英格海德分析技术有限公司
Hiden HPR30过程气体分析质谱仪适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。
Hiden HPR30过程气体分析质谱仪技术参数:
HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。
应用:
· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空涂覆/ 等离子刻蚀
· 沉积溅射
· 污染物研究
· 基本压力辨别
· 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
· 除气/烘烤/泵效能
· 反应室/过程气体污染物
Hiden HPR30过程气体分析质谱仪 特点:
· 简洁的桌上型,移动推车或控制台架结构
· Direct re-entrant流孔板,差式泵,以达到适宜的灵敏度
· 连续取样从10-4mbar至1mbar.
· 高灵敏度(可至5ppb),质量数可选至1000amu
· 软离子化技术,分析复杂有机物,或表观MS研究
· 稳定性好(24h之上,峰高变化小于±0.5%)
· MASsoft软件控制,或由局域网进行多个系统控制
· 气动阀自动控制;出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
· 自动、同时数据取得、分析,实时显示、报警
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