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F40显微膜厚测量仪

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产品型号F40

品       牌

厂商性质其他

所  在  地上海

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更新时间:2025-05-13 09:53:15浏览次数:21次

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产品简介

详细介绍

KLA Filmetrics 系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从 nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics 具有 F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60- t 等多款产品,可测量从几 mm 450mm 大小的样品,薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F40用于测量光斑 <1µm 的薄膜膜厚。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪 (SE) 和光谱反射仪 (SR) 都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和 折射率。 两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光, 而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应 (绝大多数薄膜都是旋转对称)。 因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过 10um 的,而椭偏仪侧重薄于10nm 的膜厚。在 10nm 到 10um 厚度之间,两种技术都可用。 而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。



主要应用



测量厚度、折射率、反射率和穿透率:



    • 单层膜或多层膜叠加
    • 单一膜层
    • 液态膜或空气层



技术能力



光谱波长范围:190-1700 nm



厚度测量范围:1nm-250 μm



测量n&k最小厚度:50 nm



准确度:取较大值,1nm或0.2%



精度:0.02nm



稳定性:0.05nm



光斑大小:最小可达0.5µm



样品尺寸:直径从1mm到300mm或更大



半导体薄膜:光刻胶、工艺薄膜、介电材料



液晶显示:OLED、玻璃厚度、ITO



光学镀膜:硬涂层厚度、减反涂层



高分子薄膜:PI、PC









关键词:偏振仪 椭偏仪

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