真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L
名称（Name）
真空式等离子处理系统
型号（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系统（Control system）
PLC+触摸屏
电源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中频电源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
层数（Electrode of plies）
6（Option）
有效处理面积（Area）
500（L）*500（W）（Option）
气体通道（Gas）
两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2
产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。
可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。
保养维修成本低，便于客户成本控制。
高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。
真空等离子清洗机拥有诸多优势广泛应用于表面去污及等离子刻蚀
真空等离子清洗机由真空发生系统、电气控制系统、等离子发生器、真空腔体及相关机械等几个部分构成。应用时可以根据客户的要求定制符合客户需要的真空等离子清洗机。
真空等离子清洗机有着众多优点：
1、选用数控加工技术智能化程度高；
2、具备高精密的操纵设备，時间控制精度高；
3、合理的等离子体清理不容易在表层产生损害层，工艺性能得到保证；
4、清理工作中在真空中进行，清理流程环保安(全)，不容易造成环境污染，且合理保证清理表层不容易被二次污染。
真空等离子清洗机利用两个电极形成电磁场，用真空泵实现有效的真空度，随着气体越来越稀薄，分子之间的间距及分子或离子的自由运动的距离也越来越长，受磁场作用发生碰撞而形成等离子体并产生辉光。等离子体在电磁场内的空间运动，并不断轰击被处理物体表面，去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有(机)物以及其它化学物质，以此达到表面处理清洗和刻蚀的效(果)。
真空离子清洗机广泛应用于表面去污及等离子刻蚀，聚四氟（PTFE）及聚四氟混合物的刻蚀、塑料、玻璃、陶瓷的表面(活)化和清洗、等离子涂镀聚合等工序，因此广泛应用于汽车领域、电子领域、电子领域、PCB制成行业等高精密度领域。
真空等离子清洗机整个清洗过程大致如下：
1、首先将被清洗的工件送入真空机并加以固定，启动运行装置开始排气，让真空腔内的真空程度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要几分钟。
2、然后向真空室内引入等离子清洗用的气体，并保持腔内压强稳定。根据清洗材料的不同，可分别使用氧气、氩气、氢气、氮气、四氟化碳等气体。
3、在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体，让在真空腔内产生的等离子体笼罩住被处理的工件并开始清洗作业，一般清洗处理持续几十秒到几十(分)钟不等，根据处理材质的不同而定。
4、清洗完毕后切断电源，并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出，清洗结束。
真空等离子清洗机拥有诸多优势：如采用数控技术自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制精度高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得以保证；清洗工作在真空环境中进行，清洗过程环保(安)全，不会污染环境，且有效保证清洗表面不会被二次污染。
