贴膜玻璃等离子清洗机品牌：诚峰智造
喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-R＆D-XXXD
名称（Name）
喷射型AP等离子处理系统（Jet type plasma processing system）
等离子电源型号（Plasma power model）
CRF-APO-R＆D-XXXD
电源（Power supply）
220V/AC,50/60Hz
功率（Power）
600W/25KHz（Option）
功率因素（Power factor）
0.8
处理高度（Processing height）
5-15mm
处理宽幅（Processing width）
直喷式（Direct jet type）：1-6mm（Option）
旋喷式（Potary jet type）：20mm~80mm
内部控制模式（Internal control mode）
数字控制（Digital control）
外部控制模式（External conteol mode）
启停I/O（ON/OFF I/O）
工作气体（Gas）
Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa）
电源重量（Power weight）
8kg
产品特点： 可选配多种类型等离子喷枪和喷嘴，使用于不同场合，满足各种不同产品和处理环境；
设备尺寸小巧，方便携带和移动，节省客户使用空间；
可In-Line式安装于客户设备产线中，减少客户投入成本；
使用寿命长，保养维修成本低，便于客户成本控制。
应用范围：主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理，手机屏幕的表面处理；工业的航空航天电连接器表面清洗；通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。
真空低温等离子处理机是一项新兴的高科技技术，通过向气体中注入足够的能量，可以使气体分离成等离子状态。利用等离子体中活性离子的“活化”，达到去除物体表面污渍的目的。真空低温等离子处理机与真空泵相连，在清洗过程中，清洗室内的等离子会清洗以清洁物体表面。短时间的清洗可*清洗有机物，污染物可通过真空泵去除，清洗度可达到分子级。能有效避免液体清洁介质对被清洁物体的二次污染。在应用过程中，要有一定风险控制意识。
1、以下是真空低温等离子处理机风险的：
(1)清洗介质泄漏危险：
清洗介质通常是气体，经常使用气瓶，并把它送到通过管道的设备上。若气瓶或充气发生泄漏，管道及气体设备泄漏可引起事故。如使用氢气、甲烷和其它易燃、易爆气体，在有明火、静电等的房间内，可能发生火灾和爆炸事故；如使用氩气，可能造成室内通风不良，从而引起窒息事故。意外事件：如果使用氧气，氧气是一种能增加可燃物质的氧化气体。如室内含氧太多，可能会发生火灾。
(2)设备存在触电危险：
因故障、老化、腐蚀、机械损坏等而导致电器绝缘失效。泄漏保护装置没有安装或漏电保护装置出现故障。
2、真空低温等离子处理机的管控方法：
(1)着火、爆炸和窒息的措施：规范气瓶的使用，气瓶附件应齐全，并有防止倾倒的措施。气瓶应定期进行检测，以确保在有效期内。送气管道和送气设备连接牢固。如采用氧气，则必须将气缸、接头、减压器、软管及设备与油、油脂及其它易燃、易爆物质隔离开来。不要用油手或油性手套接触氧气瓶或氧气装置。如使用氢，建议在使用的设备附近安装氢泄漏报警装置。
(2)保持室内空气流通。如通风不良，安装机械排气装置。
(3)防触电措施，设备必须接地，电源线必须无损伤，无老化现象。
