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莱特莱德（北京）纯水设备技术股份有限公司
莱特莱德（北京）纯水设备技术股份有限公司
半导体工业超纯水特点介绍：
超纯水主要应用于溶剂用水、化学分析、化工材料、产品清洗、物质的分离、浓缩、提纯等场合，对于水质要求相对严格，我们公司可根据客户对水质的具体要求，采用反渗透，EDI等超纯水生产工艺的不同组合，生产出既经济实用，又能满足客户要求的超纯水设备。
产品信息和价格仅供参考，详细可留言咨询。
半导体工业对清洁水的电导率、离子含量、TOC、DO+和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有极其严格的水质要求。
半导体工业是超纯水应用的主要产业之一。在半导体加工过程中，需要用水进行处理。水质要求较高，不含任何离子杂质。半导体超纯水设备可以有效去除水中杂质，保证设备出水水质。莱特莱德采用双反+EDI+Huncotte系统组合工艺，出水可达18.2mΩ·cm。
反渗透系统采用反渗透原理，主要去除溶解盐、有机物、胶体、高分子等，降低水质离子含量。EDI是结合离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它不需要酸碱再生。这是一种新的脱盐方法。EDI无需回收化学品，运行成本低，EDI超纯水系统自动化程度高，可实现连续运行，出水水质良好稳定，出水电阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系统用于高纯水处理系统的末端净化器。可将水中离子含量降至ppb级，出水电阻率可达18.2mΩ·cm。为半导体带来更好的性能优势。
半导体工业超纯水应用范围
1、化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程
2、超纯材料和超纯化学试剂
3、实验室和中试车间
4、电子半导体、集成电路板上用到的化工材料
5、石英、硅材料生产、加工、提纯
6、高纯墨水、打印机中的喷墨、纳米墨水
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