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莱特莱德（北京）纯水设备技术股份有限公司
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半导体行业超纯水简介：
超纯水设备是用在反渗透等水处理工艺之后，用来制取超纯水的水处理设备。设备将阴、阳离子按照比例混合装填于同一容器内，使其处理后的水质电导率可低于1uS/cm以下，出水电阻率达到10MΩ.cm以上，根据不同行业的用水要求，可将出水电阻率可控制在1-18MΩ.cm之间。
产品信息和价格仅供参考，详细可留言咨询。
半导体行业超纯水设备由预处理系统、超滤系统、软化系统、反渗透装置、EDI系统、Huncotte系统、终端供水系统等组成：
1、预处理系统。原水增压泵出口至多介质进水管路采用UPVC材质，高压部分适用304不锈钢材质。
2、超滤系统。据原水水质、回收率及产水量等因素确定膜组件的组合方式。
3、软化系统。软化器采用自动阀进行控制，同时也可根据需要切换到手动。
4、反渗透装置。反渗透装置压力容器的数量、排列方式及运行压力由供方根据根据实际原水水质报告计算确定。
5、EDI系统。EDI装置的设置为两个系列，每列都能单独运行，也可同时运行。
6、Huncotte系统。Huncotte系统选用核子级树脂，通过*的靶向离子交换树脂，能够有效控制系统出水的硼离子含量，硼离子含量通过IPC-MS检测，硼离子出水≤0.005μg/L远远小于ASTM-D5127-13标准中E1.3中要求硼离子≤0.05μg/L。
7、终端供水系统。终端供水泵能够实现不降压设备切换，可选择恒压、恒流控制方式。
半导体行业超纯水设备具有平面布置合理高效，超纯水供回水管路上设置电导率及流量计，供回水管路上的流量计需能显示累计流量和瞬时流量，超纯水系统需满足24小时连续生产要求等优势。
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