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武汉华威科智能技术有限公司
HEIJ系列H型喷印设备开发的精密微纳电流体喷印系统,工艺技术获得日内瓦发明金奖,集成按需点喷、纺丝直写和雾化制膜功能,支持矢量图、位图等多种图形格式
HEIJ系列H型喷印设备是公司开发的精密微纳电流体喷印系统,工艺技术获得日内瓦发明金奖,集成按需点喷、纺丝直写和雾化制膜功能,支持矢量图、位图等多种图形格式,适用墨水粘度1~10000cPs,涵盖各类金属纳米墨水、聚合物、光刻胶、胶粘剂、CNT、石墨烯、蛋白质等,广泛应用于印刷电子、生物医药、光电显示、能源、材料等领域。
HEIJ系列H型喷印设备特点:设备支持高压±3kV,提供直流、方波波形;支持矢量图、位图打印,主要功能是电喷的按需点喷,也支持低压近场纺丝、雾化。工艺技术获得日内瓦发明金奖,集成按需点喷、纺丝直写和雾化制膜功能,支持矢量图、位图等多种图形格式。
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