二氧化硅纳米粒子（200nm）(25mg/ml)
中空nano-silicon dioxide(200nm)
介孔nano-silicon dioxide 200nm
二氧化硅纳米粒子
物理性质：
纳米二氧化硅外观为为无定形白色粉末，粒子尺寸范围在1~100纳米，微结构为球形，呈絮状和网状的准颗粒结构。
溶解性能：不能溶于水和酸（氢氟酸除外）及有机溶剂，能溶于碱及氢氟酸。
稳定性：稳定
制造方法
纳米SiO2的制备方法分为物理法和化学法两种。
（1）物理法
物理法一般指机械粉碎法。利用超级气流粉碎机或高能球磨机将SiO2的聚集体粉碎可获得粒径1～5微米的超细产品。该法工艺简单但易带入杂质.粉料特性难以控制，制备效率低且粒径分布较宽。
（2）化学法
化学法可制得纯净且粒径分布均匀的超细SiO2颗粒。化学法包括化学气相沉积(CVD)法、液相法、离子交换法、沉淀法和溶胶凝胶(Sol-Gel)法等，主要的生产方法还是以四氯化硅为原料的气相法，以硅酸钠和无机酸为原料的沉淀法和以硅酸醋等为原料的溶胶凝胶法。
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齐岳小编：LYQ（2022/12/21）
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