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掺钇氧化锆(YSZ)晶体基片

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所在地西安市

更新时间:2021-06-23 17:52:46浏览次数:448次

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掺钇氧化锆(YSZ)晶体基片
掺钇氧化锆(YSZ)单晶基片是早应用于高温导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学、成本低的特点。由于氧化锆材料具有高硬度,高强度,高韧性,的性及耐化学腐蚀性等等的物化性能,氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等领域获得的应用。

掺钇氧化锆(YSZ)晶体基片

 掺钇氧化锆(YSZ)单晶基片是早应用于高温导薄膜的材料之一。一般使用的氧化锆需要掺入钇作为稳定剂,常见浓度有13 mol%,YSZ具有机械和化学、成本低的特点。由于氧化锆材料具有高硬度,高强度,高韧性,的性及耐化学腐蚀性等等的物化性能,氧化锆已经在陶瓷、耐火材料、机械、电子、光学、航空航天、生物、化学等等领域获得的应用。

主要性能参数

晶体结构

立方

晶格常数

a=5.147 Å 

熔点(℃)

2700

密度(g/cm3

6.0

硬度

8-8.5(mohs)

纯度

99.99%

热膨胀系数(/℃)

10.3×10-6

介电常数

ε=27

生长方法

弧熔法

尺寸

10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,

 

dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度

0.5mm,1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

<001>±0.5º

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

2°(要求可达1°以内)

斜切晶片

可按某些需求,加工边缘取向的晶面按某些角度倾斜(倾斜角1°-45°)的晶片

供应产品目录:

 

MoWS2 钼钨硫晶体MoWS2 crystals
MoS2 二硫化钼晶体 (小尺寸>10mm*10mm)MoS2 crystals
MoS2 二硫化钼晶体 (中尺寸>15mm*15mm)MoS2 crystals
MoS2 二硫化钼晶体 (大尺寸>20mm*20mm)MoS2 crystals
MnPS3 晶体MnPS3 crystals
HfS2 硫化铪晶体HfS2 (Hafnium Disulfide)
CuS 晶体CuS crystals
SnS2 二硫化锡晶体 (Tin Disulfide)
TaS2 (2H-phase) 2H-二硫化钽晶体TaS2 (2H-phase)
MoS2 二硫化钼晶体(合成)MoS2 crystals
PbSnS2 硫化锡铅PbSnS2 crystals
ZrS3 三硫化锆晶体ZrS3 crystals
Sb2S3 硫化锑晶体(Antimony sulfide)
FePS3 硫化磷铁晶体FePS3 crystals
SnS crystals 硫化锡晶体SnS crystals
TaS2 (1T-phase) 1T-二硫化钽晶体TaS2 (1T-phase)
MnPS3 硫化磷锰晶体MnPS3 crystals
Sb2OS2 硫化氧锑晶体Sb2OS2 crystals
TlInS2 硫化铟晶体TlInS2 crystals
TlGaS2 硫化镓晶体TlGaS2 crystals
GeS 硫化锗晶体(Germanium Sulphide)
p-type WS2 crystals P型二硫化钨晶体p-type WS2 crystals
GaS 硫化镓晶体(Gallium Sulfide)
HfS2 二硫化铪晶体(Hafnium Disulfide)
WS2 二硫化钨晶体(Tungsten Disulfide)
ReS2 二硫化铼晶体(Rhenium Disulfide)

 

 
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yyp2021.6.23

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