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纳米二氧化硅表面接枝的X射线光电子能谱

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更新时间:2021-03-02 15:12:53浏览次数:187次

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纳米二氧化硅表面接枝的X射线光电子能谱
二氧化硅晶体中,硅原子位于正四面体的中心,四个氧原子位于正四面体的四个顶角上,许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连,每个氧原子为两个四面体共有,即每个氧原子与两个硅原子相结合。

纳米二氧化硅表面接枝的X射线光电子能谱

摘要:在纳米SiO2表面接枝聚缩醛可在粒子表面建立起空间位阻稳定层,纳米粒子的分散稳定性,纳米粒子与树脂基体的相容性.X射线光电子能谱(XPS)的分析结果表明,经过聚缩醛接枝改性的纳米SiO2的Si2p峰降低, 结合能减小0.7eV,对C1s峰扫描及分峰拟合表明表面碳元素中有66.34%属于接枝物聚缩醛的有机碳,证明纳米SiO2表面形成了的修饰层, 修饰层以化学键结合于纳米SiO2表面,同时根据XPS和热失重(TG)分析的数据结果,可以推测聚缩醛主要分布在纳米SiO2的表面,而在体相中存在的几率较小.

纳米二氧化硅表面接枝的X射线光电子能谱

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